Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9293599 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura AP Ultima X Reactor est un équipement innovant de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour assurer un contrôle ultra-précis de l'environnement du procédé. Il utilise des méthodes de gravure et de dépôt à basse pression et à basse température pour déposer des prototypes de films semi-conducteurs, typiquement pour la fabrication de structures multicouches complexes et de dispositifs nanométriques. L'Ultima X a une réactivité et une uniformité exceptionnelles pour des débits plus élevés et des rendements plus élevés. Le réacteur AP Ultima X est capable de produire des films d'une épaisseur maximale de cinq microns, tout en maintenant un contrôle précis du procédé. Le matériel intelligent et le logiciel du système sont conçus pour optimiser la température, la pression et le débit de gaz, ainsi que les précurseurs chimiques et les composants de réaction pour produire une structure de film idéale. Cette unité de réacteur avancée est dotée d'une grande chambre, qui comprend une machine de dépôt en phase vapeur à quatre zones. Elle permet d'utiliser jusqu'à quatre précurseurs différents simultanément dans leurs zones de dépôt respectives. Le réacteur Ultima X comprend également un outil de verrouillage de charge pour le contrôle du processus de dépôt, ainsi qu'un obturateur mécanique et une technologie d'inertage. L'outil de contrôle avancé fournit des expériences et des jogs en temps réel, ainsi qu'un suivi complet de l'ensemble du processus. Il est également équipé d'un microscope électronique à balayage pour des mesures de haute précision de l'épaisseur et de l'uniformité du dépôt du film. Cette fonction permet de surveiller simultanément les paramètres critiques du processus tels que le débit de gaz, la température et la pression. La flamme de combustion Ultima X peut supporter des propriétés de flamme distribuées gaussiennes et autrement isotropes. Le réacteur dispose également de serrures de charge et de régulateurs de débit massique intégrés pour le chargement à l'entrée et à la sortie de la chambre. Le modèle à double chambre d'Ultima X permet le dépôt simultané de deux films afin de réduire le temps de traitement et d'améliorer l'efficacité globale. Il fournit également un module de sécurité avancé pour la protection contre la surexposition de matières dangereuses. En conclusion, le réacteur AMAT Centura AP Ultima X est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur très polyvalent et efficace. Grâce à ses capacités avancées de régulation de la température, de la pression et du débit de gaz, il fournit des films sophistiqués et des structures nanométriques tout en maintenant un haut niveau de sécurité. Outre sa grande précision et qualité, le réacteur offre également une large gamme de caractéristiques et d'avantages qui en font une option attrayante pour une production de haut volume et de haute qualité.