Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP #293794760 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura AP est un réacteur de nouvelle génération conçu pour améliorer le débit et la qualité des procédés de dépôt impliquant des dépôts en couches minces. AMAT Centura AP est un réacteur parallèle avancé idéal pour la fabrication à haut volume pour l'industrie des semi-conducteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura AP se compose d'une seule chambre de réacteur automatisée avec une station de chargement et de déchargement. La chambre est configurée pour traiter une variété de gaz de procédé, tels que l'oxygène, l'azote et l'argon, ainsi que des gaz supplémentaires tels que le silane ou le tétrachlorure. Il est équipé d'un ensemble d'électrodes pour créer un champ électrique, délibérément conçu pour optimiser le processus de dépôt. Le système de contrôle automatisé du réacteur permet un réglage précis des paramètres du procédé tels que la pression et la température, en fonction de tâches de dépôt spécifiques. En fonctionnement, les gaz de procédé sont libérés dans la chambre, où le champ électrique crée des conditions de dépôt optimales. Les gaz réactifs se dirigent alors vers le substrat où se forme le film mince désiré. Le gaz est alors évacué de la chambre, et celle-ci est fermée pour assurer un bon nettoyage au gaz de refroidissement. Centura AP est conçu pour être facile à entretenir et dispose de diagnostics automatisés qui permettent à l'utilisateur de diagnostiquer et d'ajuster les paramètres de réaction rapidement et facilement. De plus, le système est conçu avec une construction résistante à la contamination pour aider à minimiser la contamination pendant le processus de dépôt. L'empreinte ultra petite d'AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP le rend idéal pour les lignes de production à haut volume. Le réacteur assure également un contrôle optimal des processus tels que le PVD (dépôt chimique en phase vapeur) et l'ALD (dépôt en couche atomique) avec une large gamme de paramètres de procédé et une uniformité précise. La performance efficace et le débit élevé du réacteur en font une solution commercialement attrayante pour l'industrie des semi-conducteurs.