Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP #9364673 à vendre en France

ID: 9364673
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Etcher, 12" 2006 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura AP est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour un large éventail de matériaux, y compris des semi-conducteurs, des conducteurs, des diélectriques, des matériaux III-V et des films Si/SiO2. Le réacteur offre un excellent contrôle du procédé et une répétabilité à un prix rentable. Le réacteur AMAT Centura AP comprend une double chambre et un tube en quartz dans lequel un matériau précurseur est chauffé pour induire des réactions chimiques. On fait alors réagir le matériau précurseur chauffé avec un gaz réactif pour réaliser un film désiré sur le substrat. Le réacteur dispose d'une conduite de gaz chauffée qui permet l'alimentation en précurseurs régulés et sûrs, d'une conduite d'alimentation en gaz réactifs et d'une pompe à vide avec conduite de gaz d'échappement. Le réacteur présente une large gamme de plages de température de fonctionnement et de exigences de pression, ce qui le rend idéal pour une application dans de multiples orientations cristallines, telles que (100) et (111) faces de substrats Si. Le débit élevé de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura AP le rend adapté pour des applications à haut volume. Le réacteur est équipé d'un logiciel de contrôle de processus à plusieurs niveaux qui permet un contrôle précis des flux de gaz et de température, ainsi que la capacité de maintenir les conditions souhaitées tout au long du processus. L'interface logicielle offre facilité d'utilisation, flexibilité et répétabilité pour l'exécution d'expériences ou d'opérations de production. Centura AP est modulaire dans la conception et utilise un module de verrouillage de charge qui permet un chargement rapide et facile et le transfert de substrats. Il possède un large éventail de précurseurs élémentaires (SiH4, PH3, B2H6) ainsi que des précurseurs organométalliques (propargyl, butyllithium et triméthylgallium), mais il peut aussi être utilisé avec d'autres précurseurs chimiques. Le réacteur est capable d'obtenir des taux de croissance allant de dizaines d'angströms à microns par seconde en ajustant l'automatisation et les procédés. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura AP a un faible niveau de maintenance et est un design convivial avec une variété de caractéristiques de sécurité. Le réacteur est simple à utiliser et peut être personnalisé pour répondre à des besoins spécifiques. La robustesse de la conception du réacteur le rend apte à un fonctionnement à long terme et fiable dans les environnements de fabrication.
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