Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ASP+ #9116838 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura ASP + est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haut rendement conçu pour le traitement des plaquettes semi-conductrices. Le réacteur avancé est capable de réaliser des procédés de dépôt avancés tels que la croissance épitaxiale, le dépôt de silicium polycristallin et la formation de films exotiques. Le réacteur AMAT Centura ASP + est spécialement conçu pour répondre aux exigences de production à haut volume en offrant une productivité, une flexibilité et un contrôle de procédé supérieurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura ASP + présente un design optimisé qui améliore l'intégrité du film. Le réacteur dispose d'une chambre semi-conductrice extra-longue, qui permet une isolation thermique accrue et l'uniformité. La conception avancée permet une intégration rapide et facile dans les infrastructures de fabrication existantes. En outre, le réacteur ASP + de Centura dispose de plusieurs technologies de pointe telles que le dépôt inductif pulsé à haute température (HTPID) et l'ajustement tampon rapide (QBA) pour améliorer le contrôle de la production et la durabilité. Le réacteur est équipé d'un système de transport de plaquettes à plusieurs axes, à moteur de précision. Cela garantit un positionnement précis des plaquettes et un traitement uniforme sans manipulation manuelle des plaquettes. Les sources de plasma avancées sont aussi disponibles, le fait de permettre a avancé des processus de plasma−enabled tels que le plasma de haute densité (HDP) et la résonance de cyclotron d'électron de rayon variable de pression basse (le MICROSILLON-VREC), en améliorant plus loin l'intégrité de processus et le contrôle. Le réacteur Centrea ASP + dispose également de capteurs automatisés et d'alarmes qui surveillent les valeurs du processus, et fournissent des données en temps réel et une capacité de surveillance à distance. Les capacités avancées d'acquisition et de contrôle des données permettent aux opérateurs de repérer rapidement les changements dans les paramètres du processus et fournissent les moyens de prendre des mesures correctives si nécessaire. En outre, le logiciel convivial réduit le temps de formation et améliore la productivité des opérateurs. En résumé, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ASP + fournit une solution de classe mondiale pour le traitement des plaquettes semi-conductrices, offrant un contrôle de procédé, une fiabilité et une efficacité supérieures. La combinaison de caractéristiques et de technologies avancées permet des rendements supérieurs et une uniformité sans compromettre la productivité. Le réacteur est conçu pour être facilement intégré dans les systèmes existants, fournissant une solution fiable et rentable pour une production à haut volume.