Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura CVD #293817404 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura CVD (Chemical Vapor Deposition) est un procédé sous vide conçu pour déposer des couches minces de divers matériaux sur une grande variété de substrats. AMAT Centura CVD est composé d'une chambre de réaction à haute température, d'un équipement de gestion du gaz, d'un système de régulation de la température et d'une unité d'élimination des particules. La chambre de réaction à haute température est conçue pour déposer des films et se fixer sur un ou plusieurs des précurseurs suivants : silane, disilane, sulfure d'hydrogène, dichlorosilane, oxychlorure de phosphore, trichlorure d'arsenic, argon et azote. Le ou les films déposés peuvent être utilisés dans diverses applications telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la fabrication de supports de stockage de données et la fabrication optoélectronique. La machine de gestion des gaz de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura CVD est conçue pour délivrer le (s) précurseur (s) sélectionné (s) dans la chambre de réaction de manière contrôlée et dans les rapports corrects pour atteindre la composition de film désirée. L'outil de gestion des gaz est également conçu pour contrôler les débits exacts de chaque précurseur individuel, tant en termes de débit et de pression, que de pression totale à l'intérieur de la chambre de réaction. En outre, il est également capable de contrôler l'écoulement des gaz inertes, tels que l'argon ou l'azote, utilisés pour contrôler les températures à l'intérieur de la chambre de réaction. L'actif de régulation de température de Centura CVD est configuré pour maintenir les températures à l'intérieur de la chambre de réaction dans la plage de tolérance spécifiée comme l'exige le processus. Ce modèle contrôle les températures avant, pendant et après le dépôt des films, permettant un contrôle précis des paramètres du procédé. De plus, l'équipement de régulation de température est configuré pour contrôler la température du substrat de plaquette et des films déposés afin de faciliter une croissance optimale. Le système d'élimination des particules d'AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura CVD est conçu pour éliminer toutes les particules générées au cours du processus de dépôt. Cela permet d'assurer une croissance de haute qualité du film sur le substrat. L'unité d'élimination des particules utilise un vide in situ fixé à la chambre de réaction qui prélève en continu tous les contaminants gazeux ou solides créés par le procédé de dépôt. La machine comprend également un outil de filtration efficace et des matériaux résistants à la corrosion pour prévenir l'accumulation de particules et la contamination de l'actif. AMAT Centura CVD est un excellent modèle de dépôt qui permet un contrôle précis du processus de dépôt et conduit à un film déposé de haute qualité sur le substrat, ce qui en fait l'outil parfait pour toute application de dépôt en couches minces.