Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DCVD / DXZ #9293854 à vendre en France

AMAT Centura DXZ DCVD/Reactor, ou CVD Reactor, est un équipement de dépôt avancé conçu pour fournir des couches minces précises et de haute qualité pour des applications hétérogènes. Le système est construit avec des composants de qualité supérieure et est conçu pour fonctionner à des températures allant jusqu'à 800 degrés Celsius, fournissant une uniformité d'épaisseur exacte et un contrôle précis des processus. Le réacteur CVD est conçu pour maximiser le temps disponible et améliorer la production avec un produit de haute qualité. Les caractéristiques uniques de l'unité comprennent un démarrage automatisé du processus, avec des capacités robustes de surveillance du processus, et une machine de récupération de la trempe en option permettant la conversion de la recette. En outre, l'outil dispose d'une chambre d'environnement chauffée et de haute stabilité, contrôlée avec précision, permettant un chargement sans restriction de la chambre, et d'une navette de travail en deux étapes pour un débit élevé. Le matériel intégré de l'actif dispose d'un suscepteur et d'une tige de chauffage spécialement conçus, qui assurent un chauffage efficace et uniforme du substrat, ainsi qu'un contrôle précis de la température et de la pression. La conception du suscepteur optimise encore le dépôt en couches minces, en contrôlant la vitesse de dépôt et la taille des caractéristiques. Un mandrin électrostatique sans électrode permet le traitement de substrats à faible tension de surface. Le réacteur CVD utilise un modèle de préchauffage numérique multi-zones unique, permettant jusqu'à neuf zones de préchauffage distinctes et est conçu pour fournir un contrôle de température uniforme dans toute la gamme thermique. En utilisant la préchauffe multi-zones, le débit de production peut être considérablement augmenté car différents choix de processus peuvent être faits sans sacrifier le contrôle de la température. Des caractéristiques de sécurité et de surveillance avancées, comme un équipement de sas pour contrôler la pression et les gaz réactifs, permettent un fonctionnement sûr et efficace. Le système est conçu pour répondre aux normes de sécurité et de performance les plus élevées et a été certifié pour une utilisation avec des gaz corrosifs et explosifs. De plus, le réacteur CVD est équipé de moniteurs en temps réel spécifiques au gaz qui mesurent la distribution du gaz, la surveillance continue des gaz de procédé et la mesure de la pression qui permet de détecter rapidement les défauts de procédé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DXZ DCVD/Reactor est une unité de dépôt avancée qui fournit une précision supérieure et une excellente qualité de film pour une gamme d'applications hétérogènes. Ses fonctions de sécurité et de surveillance avancées le rendent idéal pour une utilisation avec des matières dangereuses, tandis que son matériel intégré et sa machine de préchauffage multi-zones assurent un contrôle précis de la température et un débit optimisé.