Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPN #9156591 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPN est un réacteur de dépôt tout-en-un de pointe conçu et utilisé pour les procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce réacteur de dépôt est à la pointe de la technologie et offre un large éventail de caractéristiques avancées, y compris le contrôle de la température multi-zones, les capacités de gravure humide, les taux de dépôt élevés et la faible production de particules. L'équipement DPN AMAT Centura comprend une cathode verticale de type magnétron couplée à un dispositif de chauffage par substrat multi-zones pour un contrôle précis de la température, le tout intégré dans une chambre de traitement unique et complète. Ce système offre une homogénéité de film supérieure et une répétabilité de processus exceptionnelle, ainsi qu'une gamme de fonctionnalités facultatives, y compris l'injection à distance de gaz, la capacité de charge et de déchargement automatisé, la métrologie in situ et l'étranglement in situ. Le contrôle de température multi-zones et le contrôle de traînée actif de APPLIED MATERIALS CENTURA (DPN) permettent d'uniformiser les températures et l'uniformité des substrats. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPN est capable de maintenir des températures uniformes sur une large gamme de géométries, avec une précision de ± 2,0 ° C, et une uniformité de température de surface de ± 1,0 ° C Ceci fournit un excellent contrôle du procédé, permettant des taux de dépôt plus élevés et des films uniformes. Centura DPN dispose d'une capacité de débit exceptionnelle avec sa capacité de dépôt séquentiel en 10 étapes à grande vitesse. Cette unité ne sacrifie pas les performances tout en atteignant des débits élevés grâce à des algorithmes avancés de contrôle des procédés, de contrôle de l'uniformité des dépôts, de l'uniformité des températures et de la répétabilité des procédés. CENTURA (DPN) a été conçu et optimisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de pointe, et fournit une solution idéale pour une variété d'applications dans plusieurs industries. Ce réacteur de dépôt offre une excellente répétabilité et uniformité de procédé, ainsi que des débits élevés, ce qui en fait une machine de traitement de substrat idéale pour les applications les plus exigeantes de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.