Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura (DPN+) #9174570 à vendre en France

AMAT Centura (DPN +) est un réacteur conçu pour assurer une gravure ionique réactive haute performance et un dépôt en couches minces dans le traitement monobloc et par lots. Le réacteur est conçu pour permettre des capacités de processus capables de relever des défis dans la fabrication et le dépôt de matériaux sensibles et hautement spécifiques, tels que la fabrication de dispositifs III-V. Le réacteur dispose d'un contrôleur avancé qui permet aux utilisateurs d'accéder à de nouvelles capacités avancées telles que l'homogénéité à grande surface, une densité plasmatique élevée et des énergies élevées pour la gravure. L'uniformité latérale de l'équipement est encore améliorée par l'utilisation d'une source multi-canaux standard. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura (DPN +) est construit avec une conception modulaire qui permet à l'utilisateur de personnaliser le système pour répondre à ses besoins de processus spécifiques. L'unité de commande du réacteur est conçue pour suivre les performances de la machine afin de maintenir une performance globale optimale de l'outil. Le réacteur utilise également des diagnostics avancés qui permettent aux ingénieurs du procédé de surveiller les paramètres du procédé afin de s'assurer que les taux de gravure et les autres exigences du procédé sont respectés. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura (DPN +) est capable d'obtenir un contrôle très précis de la pression électro-statique et de la dose de température. L'unité fournit également plusieurs options d'impulsions qui permettent d'ajuster les paramètres du processus pour optimiser le taux de gravure. La technologie impulsionnelle est capable de plusieurs options impulsionnelles telles qu'une seule impulsion et plusieurs impulsions qui peuvent permettre des taux de gravure plus élevés et un meilleur contrôle du processus lors de l'exécution d'une gravure ionique réactive. En outre, AMAT Centura (DPN +) est équipé de contrôleurs avancés qui permettent de contrôler la température et la pression sur la chambre de gravure, ainsi que la capacité de surveiller et d'ajuster les paramètres du processus. Cela permet à l'utilisateur de définir les paramètres du processus et de s'assurer que les taux de gravure et les autres exigences du processus sont respectés. Les magnétrons doubles brevetés permettent également une plus grande efficacité d'utilisation des ions et moins de contamination par rapport aux outils de gravure RF classiques. En outre, APPLIED MATERIALS Centura (DPN +) offre également la flexibilité d'étendre l'actif du réacteur en ajoutant des composants supplémentaires pour augmenter la capacité, ce qui permet à l'utilisateur de créer un modèle hautement configurable. Avec une gamme de raccords polyvalents et un outillage supplémentaire, l'utilisateur peut intégrer le réacteur dans sa chaîne de production existante. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS Centura (DPN +) offre une solution économique et robuste qui garantit des performances de processus correctes tout en répondant aux exigences strictes nécessaires au développement et à la fabrication de nouveaux matériaux et dispositifs. L'unité, avec ses commandes avancées, ses caractéristiques de haute performance et son large éventail de capacités, facilite le contrôle précis et la précision du processus de gravure et assure la stabilité, la reproductibilité et la répétabilité du processus.