Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPN #9176407 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura DPN est une chambre de réaction de dépôt/gravure à basse pression alternative de charge inférieure conçue pour effectuer une variété de procédés de dépôt et de gravure dans la fabrication de semi-conducteurs et de circuits intégrés. La chambre de réaction à quartz recouverte de membrane est équipée de trois alimentations de tension crête 14 KV permettant deux types de génération de plasma. Ces deux modes plasma sont le mode plasma à couplage inductif classique (ICP) et le mode plasma à couplage direct (DCP). La conception structurale de l'AMAT Centura DPN offre une excellente uniformité et une excellente charge pour décharger la répétabilité. La chambre est conçue pour minimiser les occurrences de particules, d'effluents et augmenter la fiabilité. Un contrôleur de pression numérique et un équipement auxiliaire, de nature mécanique, sont inclus en standard. La conception de la chambre permet également un accès facile au substrat pendant toutes les opérations de transfert du substrat et toutes les opérations de maintenance grâce à la console de maintenance intégrée. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA (DPN) dispose de deux types différents de sources de gaz : un gaz unifié et un approvisionnement en gaz discret. L'alimentation en gaz unifiée utilise des vannes RegAuto qui offrent une excellente répétabilité et une dérive minimale pour tous les gaz quel que soit le substrat. L'alimentation en gaz discrète permet un contrôle précis de toutes les sources d'entrée et offre une large gamme dynamique de possibilités de réaction. AMAT CENTURA (DPN) fournit aux utilisateurs un contrôle optimal de toutes les entrées de processus (flux de gaz, puissance RF, température du substrat, pression, etc.). En outre, le système dispose d'un logiciel d'autodiagnostic qui surveille la santé du système et identifie toute défaillance avant qu'il ne devienne un problème de processus. Centura DPN est capable d'effectuer une grande variété de processus de gravure et de dépôt, y compris BOE (gravure d'oxyde tamponné), gravure isotrope, gravure BOE, gravure RIE (gravure d'ions réactifs), et CVD (dépôt chimique en phase vapeur). Le logiciel inclus offre aux utilisateurs des capacités de contrôle et d'automatisation faciles à utiliser, permettant des recettes complexes et un délai rapide pour obtenir des résultats. En conclusion, le réacteur CENTURA (DPN) offre un système convivial, fiable et précis pour les procédés de gravure et de dépôt pour la fabrication de semi-conducteurs et de circuits intégrés. Offrant une répétabilité fiable et une homogénéité exceptionnelle, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA (DPN) permet aux clients d'obtenir un contrôle optimal de leurs paramètres de processus et d'obtenir les résultats souhaités.