Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPN #9399901 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPN
ID: 9399901
Style Vintage: 2011
Etchers 2011 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPN est un équipement de réacteur de gravure/dépôt intégré haute performance combinant les dernières avancées dans les technologies de gravure et de dépôt Accessible via une plate-forme unique. Cela permet aux ingénieurs de créer des structures hautement personnalisées telles que des films bi-diélectriques multi-diélectriques, des dispositifs MEMS (Micro Electro-Mechanical Systems), des films diélectriques ultra-bas k et des guides optiques. Le système est spécialement conçu pour un environnement à haut volume et à haute performance et convient à un large éventail d'applications telles que les dispositifs de mémoire et de logique, les ensembles de circuits intégrés 3D, les amplificateurs de puissance, les circuits d'affichage intégrés et les transducteurs optiques. La pompe centrifuge d'AMAT Centura DPN peut accueillir les matériaux les plus précis avec le plus faible risque de dégradation des impuretés. L'unité dispose d'une machine de chargement à obturateur unique qui peut charger plusieurs matériaux de gravure/dépôt et de commutation entre eux pour une performance optimale du procédé. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA (DPN) comprend quatre emplacements de montage permettant à l'utilisateur d'avoir un contrôle précis sur l'endroit où les matériaux sont chargés et déchargés pour un dosage précis des paramètres de gravure/dépôt de la cible. L'outil est capable de fournir une gravure ionique réactive (RIE) précise de divers matériaux jusqu'à 10 μ m. L'actif dispose de rétroaction de pression RIE en temps réel, permettant un contrôle précis des paramètres EBSD tout au long du processus, un contrôle précis de la température du gaz de gravure, un contrôle précis de l'uniformité de température sur tout le substrat et un contrôle précis des sous-produits de gravure et de dépôt. CENTURA (DPN) permet également l'utilisation simultanée de deux gaz de gravure/dépôt différents, permettant ainsi un contrôle précis des caractéristiques de gravure/dépôt final du film final. D'autres caractéristiques de Centura DPN comprennent une interface graphique facile à utiliser permettant un contrôle précis sur l'ensemble du processus, et la surveillance des performances du modèle pour garantir des performances optimales dans toutes les conditions de gravure/dépôt. L'équipement est équipé d'une analyse multivariée haute performance pour un contrôle précis des paramètres de croissance, de réfractaire et de calque. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPN assure un contrôle complet de l'ensemble du processus de dépôt et de gravure depuis le chargement et le déchargement des matériaux jusqu'au contrôle complet des paramètres de gravure/dépôt des matériaux et de post-traitement. Enfin, le système est capable d'automatiser plusieurs processus de gravure et de dépôt, ce qui élimine la nécessité pour les opérateurs de changer et de mélanger les conditions de gravure/dépôt des matériaux.
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