Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G2 #9188278 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G2
ID: 9188278
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
Etcher, 12" Process: Poly 2003 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS G2 est un réacteur thermique conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Il est alimenté par un module de traitement multi-zones haute performance capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 1200 ° C pour le traitement du substrat. Le système est construit à l'aide d'une chambre à vide double paroi en acier inoxydable avec un servomoteur intégré qui peut fournir jusqu'à 200 tonnes de capacité de vide. AMAT Centura DPS G2 comprend une technologie exclusive de purge des gaz in situ, ainsi que des systèmes automatisés pour le chargement et le déchargement des plaquettes. La chambre du réacteur est composée d'une chambre interne en céramique d'alumine et de trois sections externes séparées avec un couvercle supérieur emboîté qui accompagne chaque section. Une fenêtre en quartz dans le couvercle supérieur facilite la visualisation de l'intérieur de la chambre de réaction tandis que la coque extérieure restante contient des canaux de refroidissement à travers lesquels du gaz inerte peut circuler pour un contrôle optimal de la température. Le Centura dispose d'un « effet Oasis » innovant, qui utilise la technologie brevetée de purge des gaz in situ pour nettoyer et surveiller les niveaux de gaz à l'intérieur de la chambre. Ce procédé améliore le contrôle environnemental nécessaire pour un contrôle optimal de la contamination des chambres et de la qualité des plaquettes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS G2 offre plusieurs avantages distincts par rapport aux réacteurs thermiques classiques. Non seulement la capacité de vide est jusqu'à 7 fois supérieure à celle d'un instrument traditionnel équivalent, mais elle comprend également un système intégré de distribution de gaz ultra-haute pureté, un balayage de profil à grande vitesse et une régulation de la température des substrats multi-zones. En outre, le système est conçu avec un contrôle de puissance avancé, permettant aux utilisateurs d'assurer précisément des conditions de processus optimales et un traitement répétable pour chaque substrat. L'utilité de Centura DPS G2 pour le traitement des semi-conducteurs est encore renforcée par sa flexibilité pour accueillir une gamme de solutions de processus en une ou plusieurs étapes. Cela inclut des applications spécialisées telles que les fabrications à basse température, le recuit à haute température, l'oxydation, la nitridation et la croissance épitaxiale sélective. La régulation de température multi-zones assure que chaque substrat peut recevoir un traitement thermique personnalisé, lui donnant la capacité de réaliser une diversité de scénarios de traitement différents. Globalement, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G2 est un réacteur thermique idéal pour une large gamme d'applications de procédés semi-conducteurs. Sa grande contrôlabilité, sa construction robuste et sa grande capacité opérationnelle en font un outil fiable et puissant pour produire des résultats de processus cohérents et fiables.
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