Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9379818 à vendre en France

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur Centura DPS G5 est une chambre de gravure utilisée dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Cet équipement est conçu pour supporter une grande variété d'applications dans la gravure et le dépôt, fournissant un débit élevé et une uniformité à une multitude de substrats. Sa conception unique offre une flexibilité et une évolutivité maximales, lui permettant de gérer efficacement des conceptions uniques ou des prototypes tout en maintenant la compatibilité avec les processus standard de l'industrie. Le réacteur AMAT Centura DPS G5 est composé de deux composants distincts : la chambre et le contrôleur de chambre. La chambre est composée d'un cylindre à quartz monté horizontalement à l'intérieur d'un corps en aluminium, qui supporte l'uniformité de température et les composants actifs. A l'intérieur de la chambre se trouve l'électrode cylindrique qui abrite le substrat. Le contrôleur de chambre assure un contrôle en temps réel et en boucle fermée des composants de chambre et une rétroaction sur ceux-ci, ce qui permet un contrôle précis de la température, de la pression, du débit et de la puissance RF du substrat. Afin de répondre à ces exigences de contrôle précises, le réacteur G5 est équipé d'un système d'étalement des gaz à turbine et de régulateurs numériques de température et de pression. L'unité de distribution de gaz utilise une technique d'étalement à pression différentielle pour assurer un flux atomique/moléculaire optimal et un environnement uniforme dans la chambre. Il en résulte des vitesses de traitement plus rapides tout en maintenant une excellente uniformité. De plus, le contrôleur de pression surveille et règle la pression à l'intérieur de la chambre afin de minimiser le risque de contamination provenant de sources externes. Enfin, le réacteur G5 est capable de supporter une variété d'options de puissance RF, allant de 200kHz-1.7GHz, permettant une large gamme de capacités de gravure dynamique. Le réacteur G5 offre un contrôle complet de l'homogénéité du substrat et du gaz de procédé. Grâce à sa grande uniformité et à son contrôle précis de la température, de la pression, du débit et de la puissance RF, le réacteur G5 est une machine idéale pour de nombreux procédés de fabrication et de dépôt de semi-conducteurs, tels que le dépôt par pulvérisation, la gravure plasma et le dépôt chimique en phase vapeur. Sa conception robuste et sa capacité à gérer les variations des conditions environnementales en font un choix idéal pour les environnements d'ingénierie et de recherche. Grâce à ses capacités optimisées, APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 Reactor est parfait pour une grande variété de procédés de haute précision et est une excellente arme dans l'arsenal du laboratoire moderne de fabrication de semi-conducteurs.