Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9383829 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS G5 MESA est un réacteur conçu pour le dépôt de semiconducteurs d'oxyde métallique sur des plaquettes de silicium dans le processus de fabrication de puces semi-conductrices. Le réacteur a une chambre construite dans une technologie modifiée de dépôt assisté par ion supercritique (SIAD). Ce procédé est utilisé pour déposer un revêtement conforme d'épaisseur uniforme sur des plaquettes ou des substrats sans créer de contamination particulaire excessive. La chambre est équipée d'un ensemble à quartz de sources, d'alimentations et de creusets conformables pour assurer un contrôle thermique de haute précision. Le procédé d'AMAT Centura DPS G5 MESAMakes utilise une source de plasma dépendante du temps pour permettre le dépôt précis de films de haute qualité. Ce procédé utilise un plasma d'oxygène, typiquement généré à 400 watts, pour déposer un mince film de dioxyde de silicium sur la surface de la plaquette. Ce dépôt est ensuite suivi d'un pulvérisateur haute densité permettant d'ajouter des métaux supplémentaires. La pulvérisation accélère le transport de l'oxyde et des particules métalliques hors du substrat. Le procédé est capable de contrôler le type, l'épaisseur et la composition des couches conductrices semi-conductrices. À l'extérieur d'AMAT Centura DPS G5 MESA est un panneau latéral qui permet à l'utilisateur de surveiller le plasma généré pour garantir la précision dans les paramètres de configuration et le taux de croissance optimal. Le dispositif dispose également d'une alimentation en gaz immergé de grande fiabilité qui injecte de l'oxygène gaz sous pression dans la chambre pour mieux contrôler l'homogénéité du film. Une variété de capteurs, y compris un capteur de température, un capteur d'oxygène et un capteur de pression, permet un contrôle plus précis et répétable du processus. La conception innovante de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS G5 MESA en fait un choix idéal pour des dépôts précis et cohérents sur plusieurs stations de traitement simultanément. Le système bénéficie d'un réglage précis des radiofréquences, permettant à l'utilisateur de s'ajuster pour une meilleure uniformité des films et des vitesses de dépôt des films. Il assure également une filtration interne pour protéger contre les contaminants de procédé entrant dans la chambre. L'utilisateur peut contrôler et surveiller tous les aspects du processus pour s'assurer des meilleurs résultats. Centura DPS G5 MESA est un réacteur très efficace et fiable pour le dépôt de semiconducteurs d'oxyde métallique sur des plaquettes de silicium. Le réacteur est doté d'une chambre SIAD brevetée, d'un panneau latéral pour la surveillance de la production de plasma, d'une alimentation fiable en gaz, de divers capteurs et d'un réglage précis des radiofréquences, ce qui permet à l'utilisateur de produire des films précis et des résultats prévisibles.