Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9383831 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA
ID: 9383831
Etcher (3) Mesa chambers Axiom chamber.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS G5 MESA est un équipement de dépôt physique à haute performance en phase vapeur (PVD) conçu pour les applications de barrière de tungstène et de contact. Ce système permet la réalisation de dispositifs semi-conducteurs avancés tels que des contacts métalliques, des films diélectriques bas k, des couches de barrière de nitrure de métal réfractaire et d'oxyde. Doté de capacités avancées, l'unité offre une homogénéité et une répétabilité optimales de la structure du film et des contraintes, contribuant ainsi à améliorer le rendement du processus. AMAT Centura DPS G5 MESA comprend une chambre à vide très avancée avec une technologie multi-zones. Il présente des conceptions avancées de gestion thermique qui permettent d'atteindre moins de 1 ppm du taux cible de dépôt de gaz. La machine utilise une architecture d'outil unique et intégrée qui permet un débit maximum tout en assurant la répétabilité. En outre, il existe un concept de faible coût de propriété, avec seulement trois composants et aucun besoin supplémentaire de gaz ou de chauffage. Le DPS G5 MESA utilise plusieurs magnétrons pour créer un écran de diffusion latéral à cinq zones (LDS) qui peut être configuré pour optimiser l'uniformité du film, la vitesse de dépôt et l'état de contrainte des films. L'actif est également équipé d'une cellule de performance in situ et d'un modèle de surveillance des dépôts qui permet un bon contrôle des processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS G5 MESA fournit une solution rapide et économique pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. L'équipement permet à la fois des processus de dépôt à fente unique et à double fente, permettant d'améliorer la productivité. Le système fournit également un excellent contrôle de la température pour aider à maintenir la vitesse de dépôt désirée et l'uniformité du film. Ses capacités de gestion thermique multi-zones assurent la stabilité de la température de la chambre et de la cible, ce qui améliore la répétabilité du procédé. La conception avancée de LDS offre une uniformité robuste et une répétabilité améliorée des films. Centura DPS G5 MESA permet des processus de dépôt de barrière et de contact précis et efficaces pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. L'unité combine des technologies de pointe pour offrir un meilleur débit, une plus grande uniformité et un meilleur contrôle global des processus. Sa conception avancée de LDS assure une formation de film uniforme et sa cellule de performance intégrée et la machine de surveillance des dépôts permet un contrôle précis du processus de dépôt. Cet outil est une solution rentable pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés et peut fournir des performances constantes et répétables en production de volume.
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