Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 #9188280 à vendre en France

AMAT Centre TM DPS G5 est un réacteur PVD révolutionnaire conçu pour réaliser divers procédés de dépôt de couches minces. Ce réacteur offre une excellente capacité de traitement et une excellente productivité pour le dépôt de films continus, de couches de liner ou de couches alternées de matériaux multiples. Il peut être utilisé pour diverses applications telles que les couches de masque dur et d'arrêt de gravure, les couches de barrière et de diffusion et les couches réfléchissantes. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS G5 est basé sur la technologie traditionnelle DPS. Cet équipement offre une plate-forme plus robuste et fiable que les autres réacteurs et fonctionne avec un débit élevé jusqu'à 250⅙ entrées de plaquettes. Le réacteur est conçu pour réduire le temps de cycle et minimiser la perte de métal sur chaque cycle, fournissant une solution plus rentable. Il est équipé de systèmes de distribution de gaz et de chambres de procédés, ainsi que de systèmes mécaniques, électriques et logiciels sophistiqués qui contrôlent les paramètres du processus. Le réacteur dispose d'une source d'énergie numérique haute performance, en courant continu, avec une stabilité et une répétabilité de contrôle élevées, ce qui est essentiel pour des dépôts de couches minces fiables. Il dispose également d'un système facile à utiliser, convivial, interfacé par PC et contrôlé par monochromateur avec un étage rotatif tridimensionnel pour le positionnement de la source cible. Ceci permet une orientation précise de la cible pour une uniformité optimale du film et une couverture conforme sur toutes les surfaces des plaquettes. Le réacteur fournit également une vaste gamme de chambres de procédés pour répondre à une variété d'applications de procédés. Ces chambres sont construites en cuves en acier inoxydable avec la possibilité d'un seul ou double sommet et utilisent la technologie du bocal à quartz pour minimiser le redéploiement des molécules et particules précédemment évaporées. L'unité supporte également diverses options de chauffage et de refroidissement pour le préchauffage et le refroidissement du substrat pendant le traitement pour augmenter le débit, l'uniformité et le rendement. Le réacteur fonctionne avec plusieurs gaz de procédé afin d'obtenir des propriétés de film spécifiques. Il comprend une machine de distribution de gaz entièrement automatisée et programmable, capable de supporter jusqu'à huit gaz réactifs et jusqu'à quatre gaz inertes. Le contrôle de pression de la chambre est constamment réglable et géré efficacement pour maintenir les conditions optimales du processus. AMAT Centura DPS G5 propose une métrologie intégrée in-situ et ex-situ pour le contrôle et l'optimisation des processus. Cet outil est entièrement compatible numériquement, permettant un accès à distance pour un meilleur contrôle de l'état des actifs et facilite un flux de travail plus efficace.