Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 #9309116 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 est un réacteur à plasma dédié conçu pour la production à haut volume de structures et de caractéristiques de nanomètre avancées. Il s'agit d'une plate-forme tout-en-un, autonome, combinant les deux technologies de traitement sous vide de l'activation de la surface et du dépôt de plasma dans un seul équipement fonctionnant en grappe. Le réacteur AMAT Centura DPS G5 se compose de divers composants, tels qu'une source de plasma à basse pression, un affichage des caractéristiques, le transport des plaquettes, le système environnemental et l'unité de livraison des produits chimiques. La source de plasma basse pression est utilisée pour produire les espèces réactives utilisées dans le traitement du plasma. Il peut être tiré jusqu'à une pression de fonctionnement de 4 mtorr. L'affichage des caractéristiques, y compris l'alimentation et les commandes de fréquence, est utilisé pour ajuster le réacteur à plasma pour un fonctionnement optimal. Cet affichage permet également une personnalisation complète des paramètres du réacteur. La section de transport des plaquettes de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS G5 est conçue pour transporter les plaquettes de manière sûre et fiable du chargeur de plaquettes à la chambre à plasma tout en conservant une performance thermique optimale. Ce transport comprend également l'interface de la boîte à gants avec la cassette chargée de plaquettes, les vannes d'isolement sous vide et la détection optique. La machine environnementale de Centura DPS G5 fournit des gaz de réaction, un contrôle adaptatif de la puissance du plasma, une commutation des gaz de fond et des recettes dans un outil entièrement automatisé et simple à utiliser. Cet atout garantit la plus haute qualité et les processus de gravure plasma les plus reproductibles. Le modèle de livraison chimique du DPS G5 est composé de collecteurs de dosage chimique et est capable de fournir des produits chimiques précis à la zone de production. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS G5 fournit des processus reproductibles et contrôlables à un coût efficace grâce à sa plate-forme micro-substrat robuste et aux technologies de traitement double vide. Ce réacteur permet une gravure, un dépôt et un nettoyage rapides des métaux, des oxydes, des nitrures, et plus précisément à une vitesse de pointe dans l'industrie. Son panneau de contrôle convivial, son intégration logicielle complète et sa connectivité réseau permettent aux utilisateurs de maintenir un processus cohérent dans une interface facile d'accès.