Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 #9379814 à vendre en France
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ID: 9379814
Taille de la plaquette: 12"
Etcher, 12"
(3) Mesa chambers
Axiom chamber.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Le Centura DPS G5 est un réacteur de la famille des plaquettes en silicium de 300 mm de performance ultima conçu pour permettre les structures de dispositifs les plus avancées. Il est utilisé pour le traitement de matériaux tels que le silicium polycristallin, les oxydes, les nitrures et les silicures à une température plus élevée jusqu'à 800oC. AMAT Centura DPS G5 dispose de plaquettes optimisées par rapport à d'autres réacteurs. Il est équipé de la technologie Digital Process Control (DPC) qui permet une haute précision de répétabilité avec la commande numérique pour stabiliser l'environnement de la chambre. AMAT Centura dispose également de capacités de ramassage rapide pour minimiser les budgets thermiques et améliorer la répétabilité des processus et les temps de dégazage. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS G5 offre du plasma activé atomisé qui est utilisé pour réduire les oxydes et les nitrures à leur forme catalytique pour l'intégration CVD. Cette caractéristique permet au réacteur d'améliorer les performances de la chaîne de production grâce à une distribution très uniforme des gaz de procédé, un temps de réponse rapide et un contrôle précis de l'épaisseur du film. Le réacteur dispose d'un actionneur linéaire à entraînement direct qui conduit à une plus grande précision et répétabilité pour les procédés avancés de dépôt de couches bicouches. Ces réactions ont également un contrôle de purge supérieur en utilisant une série RF/plasma à réponse rapide. Centura DPS G5 a une option de chauffage à deux substrats, qui permet une réaction haute température et haute pression pour un grand nombre de plaquettes. Il dispose également d'un suscepteur de quartz ou de nitrure de bore avec charge/déchargement DDR pour réduire la migration inverse et l'exposition à l'air des plaquettes. Il est équipé de fonctions de contrôle de recette de processus qui garantissent la répétabilité, l'uniformité et la reproductibilité du processus. Permet également une distribution de wafer-to-wafer optimisable et des performances de processus, avec une qualité de processus supérieure. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 est un système de dépôt avancé fiable qui est idéal pour la fabrication d'IC avancés de haute performance, ainsi que des structures de dispositifs semi-conducteurs. Sa conception sophistiquée et ses diverses caractéristiques programmables en font l'un des systèmes de dépôt les plus avancés de l'industrie aujourd'hui.
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