Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS I #9358215 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS I est un équipement de réacteur de dépôt et de gravure hautement performant, isolé chimiquement, conçu pour rationaliser la fabrication de dispositifs microélectroniques avancés. Le système permet une croissance épitaxiale fiable et à haut débit des matériaux semi-conducteurs composés. Il combine les avantages des procédés de dépôt en couche atomique (DAL) et de dépôt chimique en phase vapeur (DAV) dans une seule unité pour donner aux utilisateurs finaux un contrôle inégalé des gravures et des dépôts. La machine dispose de modules avancés de contrôle des processus et de métrologie pour garantir la fabrication précise et répétable de structures de dispositifs complexes sur des substrats avancés. AMAT Centura DPS I est conçu pour le traitement thermique rapide, le dépôt de couche atomique et les applications de dépôt chimique en phase vapeur. Avec une large gamme de capacités de processus, la polyvalence de la plate-forme la rend idéale pour la fabrication d'une large gamme de dispositifs microélectroniques, y compris la mémoire, la logique et les dispositifs de puissance. L'outil utilise un mécanisme de convoyeur efficace qui supporte plusieurs exécutions de recettes simultanément, ce qui en fait un choix idéal pour une production à haut volume. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS I dispose d'une chambre de réaction (RFV) disposée verticalement et d'un volume volumétrique pouvant atteindre 8 litres. Il est entouré de six panneaux électriques, reliés l'un à l'autre selon une architecture modulaire conçue pour simplifier la maintenance des actifs et des processus. L'ensemble du modèle est enfermé dans un environnement hermétiquement clos qui peut être réglé pour des températures allant jusqu'à 170 ° C et une pression réduite inférieure à 1,5 mTorr. Le réacteur dispose d'un contrôleur de débit massique (MFC) intégré qui est alimenté par un système de contrôle intelligent au niveau de l'équipement qui fonctionne en utilisant l'intelligence distribuée. Ceci permet au réacteur d'obtenir un contrôle thermique précis sur une plage étendue de températures, les étapes minimales réalisables étant aussi petites que 10 mK/min. L'unité offre également un mode impulsionnel programmable et un design de commande Intelligent Q intégré pour un contrôle de processus de gravure inégalé. La machine du réacteur utilise également un outil d'ombrage et de purge des gaz à deux chambres, qui protège le substrat tout en assurant un contrôle haute uniformité de la surface de gravure/dépôt. Le logiciel avancé de l'actif fournit également à l'utilisateur des capacités de cartographie des plaquettes, de contrôle prédictif Q et de suivi automatisé des plaquettes du port de chargement au port de chargement. Centura DPS I est un outil passionnant qui offre à ses utilisateurs la capacité de conduire leurs performances et leur efficacité, et d'offrir les meilleurs rendements en classe. Avec ses capacités de dépôt et de gravure répétables, fiables et uniformes, ce modèle s'est avéré être un atout inestimable pour les installations de fabrication de puces et la production de plaquettes.