Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Mesa HP #9314662 à vendre en France
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ID: 9314662
Taille de la plaquette: 12"
Etcher, 12"
Poly etch
(3) DPS II Chambers
Axiom chamber
RF Gen rack
AC Rack
Missing parts:
KAWASAKI ATM Robot EFEM
Buffer chamber ( VHP Robot)
Turbo pump.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS II AE Mesa HP est un réacteur de traitement de plaquettes très avancé conçu pour une vitesse et une précision optimales. Il utilise une conception de chambre multi-zones pour assurer un chauffage et un dépôt uniformes des matériaux, assurant des résultats cohérents. La chambre de procédé dispose d'une table intégrée avec autour de trois zones horizontales pour jusqu'à six cercles individuels solutions de refroidissement avec régulation de température indépendante. Ce tableau permet des processus simultanés, permettant aux utilisateurs d'atteindre des temps de cycle plus élevés et plus rapides. La chambre du réacteur est entourée d'un collecteur à vide. La conception du collecteur assure la mise en oeuvre du procédé sous vide permettant un dépôt et une gravure paires des plaquettes. La chambre est en outre équipée d'un équipement d'injection de gaz pour fournir du gaz de procédé en quantités et rapports exacts le long des températures de procédé mesurées. AMAT Centura DPS II AE Mesa HP est également équipé d'un système de contrôle AMAT, qui permet aux ingénieurs de procédé de créer des recettes individuelles pour différentes installations. Il assure également un suivi en temps réel des conditions de processus et permet l'optimisation des processus. De plus, l'unité est équipée de dispositifs de sécurité pour assurer le respect des normes de sécurité requises. Ce réacteur assure également une grande précision et une uniformité dans l'épaisseur des matériaux déposés et gravés. Il offre également une excellente répétabilité et un haut niveau de contrôle de processus pour améliorer les rendements dans le processus de production des plaquettes. En conclusion, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS II AE Mesa HP est conçu pour fournir un traitement de plaquettes haute performance avec chauffage, dépôt et gravure uniformes. Ce réacteur est équipé d'un collecteur à vide, d'une machine d'injection de gaz et d'un outil de contrôle, ce qui donne aux utilisateurs un outil puissant pour fournir des processus uniformes et reproductibles. De plus, ce réacteur est conçu pour une sécurité, une précision et des rendements maximaux.
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