Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Poly G3 #9195071 à vendre en France
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ID: 9195071
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Poly etcher, 12"
(3) Process chambers
Factory interface configuration
Front end PC type: 4.0 FEPC
FIC PC Type: CPCI
(3) Load ports
A3 Type: Atmospheric robot KAWASAKI single fixed robot
Side storage: Right and left
Mainframe configuration
IPUP Type: ALCATEL A100L
Gas panel type: Standard
VHP Robot: Dual blade
MF PC Type: CL7
Chamber configuration:
Chamber A:
Chamber model: DPS II Poly
Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz
Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kv navigation
Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation
Turbo pump: STP-A2503PV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320
FRC: MKS FRCA-52163310
ESC: Dual zone ceramic ESC
End point type: EyeD IEP
Chamber B / C:
Chamber model: DPS II Poly
Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz
Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kv navigation
Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation
Turbo pump: STP-A3003CV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320
FRC: MKS FRCA-52163310
ESC: Dual zone ceramic ESC
End point type: EyeD IEP
Missing parts:
AXIOM Chamber
RF Source
VODM
Throttle valve
2007 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS II AE Poly G3 est un réacteur de gravure plasma très avancé conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Ce réacteur est particulièrement bien adapté aux procédés comportant des caractéristiques de rapport d'aspect élevé de moins de 500 nm, ce qui le rend idéal pour les exigences des conceptions de puces les plus modernes. Le réacteur fait partie de la série Centura DPS II et dispose d'une conception modulaire qui lui permet de répondre à une variété d'applications à mesure que les exigences évoluent de l'optimisation des procédés. Le réacteur contient une cuve chargeable en WF, ce qui signifie que diverses options telles que des tailles de plaquettes non standard ou des orientations de quartz peuvent être supportées. Le réacteur est alimenté par un système avancé de distribution d'énergie AMAT Endura 5500 offrant des performances supérieures avec un contrôle précis et une grande uniformité. Cela permet aux clients d'atteindre des taux de gravure élevés et une excellente répétabilité des résultats avec chaque lot. Le système de distribution d'énergie dispose également d'une flexibilité multifréquence que l'utilisateur peut adapter à ses besoins spécifiques. Le réacteur est compatible avec une grille en silicium et est conforme aux normes de 300mm, ce qui le rend adapté à une grande variété de conceptions de puces. Il est également conçu avec des fonctionnalités avancées telles qu'un système intégré d'analyse de pompe et de gaz pour maximiser les performances et l'efficacité opérationnelle, ce qui garantit que les fenêtres de processus peuvent être optimisées pour atteindre le rendement le plus élevé. Le réacteur est disponible avec plusieurs options et fonctionnalités, telles qu'un jeu de mandrin de substrat, des lampes de source en option, et des systèmes de surveillance du plasma. Il comporte également des mécanismes de sécurité intégrés pour assurer une sécurité et une productivité optimales en tout temps. AMAT Centura DPS II AE Poly G3 est un réacteur très avancé et fiable conçu pour répondre aux besoins de l'industrie des semi-conducteurs. Il offre des performances et une flexibilité supérieures et dispose d'un design modulaire adapté aux exigences spécifiques de l'application. Il est adapté pour des conceptions allant des caractéristiques sub-500nm aux puces 300mm. Cela en fait un excellent choix pour tous les types d'applications de semi-conducteurs.
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