Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #139909 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS II est un outil de dépôt physique en phase vapeur à faisceau d'électrons (e-PVD) équipé d'un loadlock de capacité 3-He. Ce réacteur est conçu pour fournir des procédés PVD avancés avec des taux de dépôt uniformes importants sur de grandes tailles de plaquettes. Il dispose d'un module bi-injecteur configurable capable de quatre processus simultanés, permettant un rendement et un débit élevés. La source in situ de 4 pouces du réacteur est disponible avec une gamme d'applications, y compris la pulvérisation, le dépôt multicouche et le dépôt à haute vitesse de nano-structures compatibles avec toutes les techniques de procédé sous vide. Le réacteur AMAT Centura DPS II est un équipement à vide élevé avec une pression de fonctionnement de 1.. 5 x 10-5 Torr (2 mbar). Il est équipé d'un système de getter ionique rectifiable linéairement pour une meilleure adhérence substrat/substrat. Cette unité à vide élevé maintient une homogénéité et une homogénéité constantes de température des plaquettes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II dispose également d'une rotation à grande vitesse des plaquettes avec des gammes de vitesses doubles de 5 à 75 tours/minute et de 200 à 300 tours/minute. Le réacteur Centura DPS II est équipé d'une machine de chauffage multi-zones pour un contrôle thermique précis des différents procédés. Ceci maintient un environnement de processus uniforme et améliore l'uniformité du taux de dépôt. Les commandes de chauffage sont compatibles avec différents substrats, permettant des processus de haute précision sur une large gamme de températures de dépôt. De plus, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II offre une capacité tridimensionnelle de mesure du profil de température, qui permet à l'utilisateur de minimiser la variation du profil de température. AMAT CENTURA DPS + II dispose d'un outil d'accostage unique avec un mécanisme de précharge et un ascenseur motorisé de bas niveau. Ceci garantit un chargement et un déchargement précis et répétables de la plaquette sans contamination. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura DPS II est également équipé de ports mécaniques embarqués et de ports en grappe qui permettent une intégration facile avec d'autres systèmes de dépôt. CENTURA DPS + II est un outil très efficace et fiable, ce qui en fait un choix idéal pour une variété de processus PVD. Il est capable de produire des couches de film de haute qualité et uniformes avec des transitions vives, permettant des rendements élevés dans la production.