Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293607532 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Le Centura DPS II est un réacteur à traitement thermique rapide multifréquence (RTP) conçu pour des applications de plaquettes semi-conductrices hautement intégrées et performantes. Cet équipement offre une homogénéité de température et une fiabilité supérieures pour les applications les plus exigeantes. Il dispose d'une chambre de réaction à haute température, d'un système horizontal de distribution de gaz et d'une unité dynamique de contrôle de la température pour garantir des températures de traitement optimales. AMAT Centura DPS II est un outil polyvalent qui est utilisé dans un large éventail d'applications, y compris le dépôt, l'oxydation, la diffusion, le recuit et l'épitaxie. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II est composé de deux parties : la chambre de réaction à haute température et la machine de régulation dynamique de la température. La chambre de réaction peut atteindre des températures allant de 100 ° C à 1100 ° C et est conçue pour les réactions de plaquettes à haute température. De plus, la chambre de réaction présente un outil de conduction thermique isolé pour assurer une uniformité de température à l'intérieur de la chambre. Le DPS II est également doté d'un système de distribution horizontale de flux de gaz qui permet d'obtenir un débit élevé (jusqu'à 200 slpm) de particules de gaz à travers la chambre de réaction afin d'assurer des conditions de réaction uniformes tout au long du processus. Le modèle de régulation dynamique de la température permet un contrôle précis de la température pour garantir des résultats optimaux. La température peut être ajustée en temps réel pour chaque plaquette afin d'assurer des résultats cohérents. En outre, l'équipement dispose d'un étincelant haute fréquence qui permet un traitement de température sous-seconde. Ceci est important pour les processus complexes et minimise la possibilité de résultats indésirables en raison d'un délai de traitement prolongé. Centura DPS II est idéal pour les applications dans lesquelles un contrôle absolu de la température, de l'uniformité et de la vitesse sont requis. Le système est bien adapté à une gamme de procédés, y compris le dépôt, l'oxydation, la diffusion, le recuit et l'épitaxie, et est la solution idéale pour une large gamme de procédés semi-conducteurs avancés. AMAT CENTURA DPS + II est une solution hautement fiable, personnalisable et économique pour des applications semi-conductrices intégrées de haute performance.