Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293660388 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II est un système de traitement de plaquettes unique qui offre le débit et la répétabilité les plus élevés sur le marché, conçu pour réduire les délais de traitement, améliorer les rendements et augmenter les rendements et réduire les complexités pour une large gamme d'applications de semi-conducteurs. La technologie permet une nouvelle mise à l'échelle des semi-conducteurs et des progrès dans les structures avancées des transistors tout en offrant des performances de dispositif supérieures. AMAT Centura DPS II dispose d'une empreinte de 55 mm, d'un diamètre maximal de 155mm et d'une épaisseur maximale de 4,26 mm. Avec la manipulation avancée des plaquettes et le système de contrôle adaptatif des matériaux appliqués CENTURA DPS + II, les processus au niveau des plaquettes peuvent être réalisés avec une répétabilité supérieure. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS II est adapté aux procédés à grande vitesse tels que les recuits ultrarapides, les recuits à basse température, les dopants d'entraînement et les dopants à basse température, ce qui en fait un outil idéal pour le développement de dispositifs avancés. Il offre également un support pour les matériaux à haute sensibilité tels que le SiC et le GaN, permettant aux utilisateurs de travailler avec ces matériaux dans une enveloppe de température et de puissance qui répond à leurs exigences respectives. La source de plasma dédiée à haut rendement sur Centura DPS II fournit la plus haute uniformité de plasma, de température et de processus sur toute la plage de température de consigne de chambre et de plaquette. Cela permet aux utilisateurs de tirer parti de la densité plasmatique élevée, de l'uniformité des températures élevées et de la cohérence des processus sur de larges plages de taille de plaquettes. Le plasma est appliqué par une ouverture blindée en oxyde pour assurer un fonctionnement sans temps mort. Les générateurs RF multimodes indépendants assurent un contrôle robuste de la pression atmosphérique et de la puissance plasmatique. L'ensemble complet de capteurs in situ d'AMAT CENTURA DPS + II permet aux utilisateurs de surveiller la température, la pression et le profil de gaz de leur chambre en temps réel, ce qui permet d'obtenir le rendement le plus élevé avec un minimum d'interruption. Les contrôles avancés intégrés du réacteur améliorent encore la répétabilité et la fiabilité des opérations. De plus, la fonction programmable de commande d'impulsions maximise la vitesse des opérations et minimise le temps de séjour. Dans l'ensemble, le système réactif CENTURA DPS + II offre le débit et la répétabilité les plus élevés disponibles sur le marché des semi-conducteurs aujourd'hui. Grâce à sa manipulation avancée des plaquettes, à son excellente source de plasma et à son ensemble complet de capteurs in situ, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II permet aux utilisateurs de profiter pleinement de leurs capacités de développement et de fabrication de semi-conducteurs.