Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293754618 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS II est un dispositif de fabrication de semi-conducteurs de pointe utilisé pour créer des microstructures idéales. Cet outil multi-objectifs utilise des techniques avancées de dépôt et de gravure pour fabriquer des motifs complexes à l'échelle des nanomètres pour l'intégration précise de composants actifs et passifs dans des produits très petits ou complexes. Les principaux éléments du réacteur AMAT Centura DPS II sont la chambre à vide, l'ensemble pompe à vide, le contrôleur de masse source, le porte-substrat/plaquette, le panache de gaz ionisé assisté par électrons et les composants de commande externes. La chambre est cylindrique et en aluminium, et est scellée au moyen d'un joint torique et d'une fermeture électromagnétique. Sa construction robuste assure une homogénéité, une répétabilité et des performances thermiques optimales, tandis que la puissante pompe à vide permet des conditions de processus extrêmement uniformes. Le contrôleur de masse source est un composant clé de APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II et est utilisé pour moduler précisément le débit de gaz. Le panache de gaz est créé par une combinaison d'électrons et de gaz sources ionisés. Ceci permet une homogénéité inégalée des couches et une grande variété de profondeurs de jonction et d'épaisseurs de barrière. Le support substrat/plaquette est également essentiel au fonctionnement d'AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II et offre un contrôle mécanique sur la plaquette ainsi qu'une orientation précise de l'échantillon. Son capteur de température optique permet une optimisation rapide des processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS II est conçu pour un fonctionnement facile et est construit avec une pléthore de composants de contrôle externes qui facilitent l'automatisation et le contrôle des processus. Cela comprend un enregistreur de données de processus, un équipement de gestion de données de recette, un système de gestion de fichiers et une unité de contrôle distribué, qui sont tous intégrés à une machine intégrée contrôlée par ordinateur qui assure une précision de processus uniforme. Le réacteur DPS II de TheCentura est polyvalent et peut être utilisé pour divers procédés, y compris le dépôt de Si-Ge-Hf, le dépôt diélectrique sous-sélectif, le dépôt sélectif de zones, les mémoires noyées, le dépôt de SiOx et la gravure. Grâce à sa conception avancée, il est l'outil idéal pour des exigences d'application très exigeantes où la répétabilité et l'uniformité des couches sont essentielles.