Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9188294 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS II est un réacteur à plasma thermique avancé à haute densité. Il est conçu pour fournir des taux de dépôt élevés pour une gamme de processus de dépôt plasma qui nécessitent des faisceaux d'électrons de haute énergie, tels que l'épitaxie, CVD, ALD et ALOx revêtement, etc. AMAT Centura DPS II offre des capacités de dépôt en phase vapeur physique et chimique de pointe. Le réacteur est équipé d'une source d'électrons multi-grille avancée permettant des distributions uniformes et non uniformes, et d'une large plage de pression du substrat. Le réacteur dispose également d'un équipement indépendant de contrôle du débit de gaz qui supporte jusqu'à sept conduites de gaz d'essai individuelles. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II est livré avec un processus de nettoyage de chambre entièrement automatisé pour le démarrage rapide et efficace, l'arrêt, et les temps d'arrêt réduits. Le processus de traitement de surface efficace comprend un moniteur de débit de gaz automatisé, ainsi qu'un capteur de pression multi-zones. Cela permet des processus de dépôt avec des gaz de processus tels que l'oxygène, l'oxyde nitreux, le monoxyde de carbone, le chlore et le trichlorosilane. Le système de contrôle et d'acquisition des données du réacteur a été conçu pour assurer la surveillance des processus et l'enregistrement des données. De plus, les réacteurs permettent des recettes sur mesure pour assurer un contrôle thermique optimal, un dépôt uniforme et un dépôt réduit. L'unité est capable de fournir une homogénéité et un dépôt optimaux sur des substrats à la fois souples et rigides. Ceci assure un dépôt uniforme sur différentes zones des substrats et assure le meilleur rendement. Le réacteur AMAT CENTURA DPS + II est équipé d'un dispositif d'échappement latéral des gaz inertes qui minimise les risques de contamination et de dégradation du substrat. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II peut être utilisé pour une grande variété d'applications telles que la création de couches minces dans l'industrie des semi-conducteurs pour l'emballage de dispositifs microélectroniques. La machine de dépôt multi-zones et une large gamme de gaz de dépôt permettent aux chercheurs d'obtenir une productivité de fabrication importante et une robustesse de procédé. L'outil est également équipé de dispositifs de sécurité qui assurent le fonctionnement sûr du réacteur et l'évitement de procédés dangereux.