Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9189076 à vendre en France
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ID: 9189076
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2002
Metal etcher, 8"
Platform type: Centura AP
Chamber configuration:
Chamber A & B: DPS II Metal bridge chamber, 8"
Chamber C: ASP II Chamber
Process chamber:
Process kits:
DPS II Metal parts / Chamber
Ceramic Lid
ESC Type: DPS II STD CESC, 8"
ESC Power supply: DPS II STD
Control type:
APPLIED MATERIALS STD (VAT)
Chamber A: 65048-PH52-AFS1 / 0583 A-664028
Chamber B: 65048-PH52-AFS1 / 0546 A-626798
EOP Type: Monochromator
Transfer chamber:
Robot type: VHP+ Dual blade
APPLIED MATERIALS STD LCF Detector
Loadlock chamber:
SWLL Body: (2) SWLL Chambers
EFEM:
(2) Loadports
ASYST Versaport 2200
Air intake system: APPLIED MATERIALS STD Intake
FI Robot: APPLIED MATERIALS Kawasaki
Wafer align: APPLIED MATERIALS STD
Wafer out of position detection: APPLIED MATERIALS STD
Remote interface:
Components interface:
Dry pump (Transfer chamber): IPUP Pump, ALCATEL A100L
Chiller
System monitor: Monitor 1 & Monitor 2
Flat panel with keyboard on stand
Components:
Turbo molecular pump: APPLIED MATERIALS STD BOC EDWARDS
RF Power system:
Source RF generator:
APPLIED MATERIALS STD / APEX 3013
Frequency / Max power: 13.56MHz / 3KW
Bias RF generator:
APPLIED MATERIALS STD / APEX 1513
Frequency / Max power: 13.56MHz / 1.5KW
RF Match box:
Source: Navigator 3013
Chamber A & B: 0190-15168
Bias: Navigator 1513
Chamber A: 0190-23623
Chamber B: 0190-15167
Utility specification:
Gas panel type: STD
Gas panel exhaust: Top center exhaust
(12) Gas lines
Gas line tape heater (for liquid gas): BCL3
MFC Configuration:
MFC type: Digital type
MFC Maker / Model (All Chamber): UNIT MFC
Gas information:
Gas Size
BCL3 200
CL2 200
NF3 100
HCL 100
NF3 20
N2 50
HE 100
O2 1L
SF6 400
CHF3 25
CF4 50
AR 400
Axiom + chamber:
Gas Size
NH3 1000
O2 10000
CF4 750
N2 1L
Independent helium control: APPLIED MATERIALS STD MKS 649A
Electricity:
AC Rack: APPLIED MATERIALS STD AC Rack
Power supply: 3 φ, 208 V, 400 A, 50/60 Hz
System controller:
FES: FEPC
FIS: Flex3
MF SBC: Flex3
CCM SBC: 166 MHz
MF Controller:
Mainframe devicenet I/O:
Cardcage and backplane board
2002 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS II est un réacteur thermique rapide à double zone conçu pour le traitement de matériaux avancés dans une variété d'applications. Il dispose d'un puissant générateur RF qui peut générer une puissance élevée avec un contrôle précis de la température pour le traitement précis des films minces, des structures multicouches et des piles de dispositifs. La fonction principale d'AMAT Centura DPS II est de déposer plusieurs couches de matériaux différents sur un substrat de manière précise et précise. Pour ce faire, on utilise une configuration à double zone du processeur thermique rapide à double zone. Les deux zones sont indépendantes, ce qui permet de créer des profils de température précis dans chaque zone. Cela se fait en contrôlant individuellement les chauffages, surveillés par des systèmes de contrôle informatisés avancés. La configuration double zone en MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II permet une répartition uniforme de la chaleur et un contrôle précis de la température. Pour ce faire, les deux zones chauffent jusqu'à des températures différentes, qui seront déterminées par des paramètres définis par l'utilisateur. Le réacteur RTP a également la capacité de contenir et de confiner des mélanges gazeux de composition et de concentration différentes pour des réactions précises contrôlées de composition. Centura DPS II utilise un refroidissement actif pour se refroidir rapidement après que chaque zone ait atteint la température désirée pour un dépôt précis et cohérent. Cette configuration multizone RTP permet également des vitesses de montée et de descente précises pour chaque zone, ce qui est essentiel dans la recherche de dépôt de couches minces et épaisses. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS II dispose également de dispositifs diagnostiques avancés qui permettent aux ingénieurs et aux scientifiques de surveiller et de mesurer avec précision les matériaux traités dans le réacteur RTP. Cette surveillance est particulièrement utile dans les expériences de dispositifs multicouches et d'empilement où l'on souhaite des propriétés de couche précises. CENTURA DPS + II est un outil précieux pour les scientifiques et les ingénieurs de l'industrie de transformation des matériaux avancés en raison de son contrôle précis de la température, de sa vitesse de dépôt précise et de ses capacités de surveillance précises. Le réacteur a été utilisé dans de nombreuses applications, allant de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, au dépôt de couches minces, et bien d'autres. Les capacités de chauffage central, de refroidissement et de surveillance d'AMAT CENTURA DPS + II en font un outil inestimable dans la recherche et la production industrielle.
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