Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9189076 à vendre en France

ID: 9189076
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2002
Metal etcher, 8" Platform type: Centura AP Chamber configuration: Chamber A & B: DPS II Metal bridge chamber, 8" Chamber C: ASP II Chamber Process chamber: Process kits: DPS II Metal parts / Chamber Ceramic Lid ESC Type: DPS II STD CESC, 8" ESC Power supply: DPS II STD Control type: APPLIED MATERIALS STD (VAT) Chamber A: 65048-PH52-AFS1 / 0583 A-664028 Chamber B: 65048-PH52-AFS1 / 0546 A-626798 EOP Type: Monochromator Transfer chamber: Robot type: VHP+ Dual blade APPLIED MATERIALS STD LCF Detector Loadlock chamber: SWLL Body: (2) SWLL Chambers EFEM: (2) Loadports ASYST Versaport 2200 Air intake system: APPLIED MATERIALS STD Intake FI Robot: APPLIED MATERIALS Kawasaki Wafer align: APPLIED MATERIALS STD Wafer out of position detection: APPLIED MATERIALS STD Remote interface: Components interface: Dry pump (Transfer chamber): IPUP Pump, ALCATEL A100L Chiller System monitor: Monitor 1 & Monitor 2 Flat panel with keyboard on stand Components: Turbo molecular pump: APPLIED MATERIALS STD BOC EDWARDS RF Power system: Source RF generator: APPLIED MATERIALS STD / APEX 3013 Frequency / Max power: 13.56MHz / 3KW Bias RF generator: APPLIED MATERIALS STD / APEX 1513 Frequency / Max power: 13.56MHz / 1.5KW RF Match box: Source: Navigator 3013 Chamber A & B: 0190-15168 Bias: Navigator 1513 Chamber A: 0190-23623 Chamber B: 0190-15167 Utility specification: Gas panel type: STD Gas panel exhaust: Top center exhaust (12) Gas lines Gas line tape heater (for liquid gas): BCL3 MFC Configuration: MFC type: Digital type MFC Maker / Model (All Chamber): UNIT MFC Gas information: Gas Size BCL3 200 CL2 200 NF3 100 HCL 100 NF3 20 N2 50 HE 100 O2 1L SF6 400 CHF3 25 CF4 50 AR 400 Axiom + chamber: Gas Size NH3 1000 O2 10000 CF4 750 N2 1L Independent helium control: APPLIED MATERIALS STD MKS 649A Electricity: AC Rack: APPLIED MATERIALS STD AC Rack Power supply: 3 φ, 208 V, 400 A, 50/60 Hz System controller: FES: FEPC FIS: Flex3 MF SBC: Flex3 CCM SBC: 166 MHz MF Controller: Mainframe devicenet I/O: Cardcage and backplane board 2002 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS II est un réacteur thermique rapide à double zone conçu pour le traitement de matériaux avancés dans une variété d'applications. Il dispose d'un puissant générateur RF qui peut générer une puissance élevée avec un contrôle précis de la température pour le traitement précis des films minces, des structures multicouches et des piles de dispositifs. La fonction principale d'AMAT Centura DPS II est de déposer plusieurs couches de matériaux différents sur un substrat de manière précise et précise. Pour ce faire, on utilise une configuration à double zone du processeur thermique rapide à double zone. Les deux zones sont indépendantes, ce qui permet de créer des profils de température précis dans chaque zone. Cela se fait en contrôlant individuellement les chauffages, surveillés par des systèmes de contrôle informatisés avancés. La configuration double zone en MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II permet une répartition uniforme de la chaleur et un contrôle précis de la température. Pour ce faire, les deux zones chauffent jusqu'à des températures différentes, qui seront déterminées par des paramètres définis par l'utilisateur. Le réacteur RTP a également la capacité de contenir et de confiner des mélanges gazeux de composition et de concentration différentes pour des réactions précises contrôlées de composition. Centura DPS II utilise un refroidissement actif pour se refroidir rapidement après que chaque zone ait atteint la température désirée pour un dépôt précis et cohérent. Cette configuration multizone RTP permet également des vitesses de montée et de descente précises pour chaque zone, ce qui est essentiel dans la recherche de dépôt de couches minces et épaisses. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS II dispose également de dispositifs diagnostiques avancés qui permettent aux ingénieurs et aux scientifiques de surveiller et de mesurer avec précision les matériaux traités dans le réacteur RTP. Cette surveillance est particulièrement utile dans les expériences de dispositifs multicouches et d'empilement où l'on souhaite des propriétés de couche précises. CENTURA DPS + II est un outil précieux pour les scientifiques et les ingénieurs de l'industrie de transformation des matériaux avancés en raison de son contrôle précis de la température, de sa vitesse de dépôt précise et de ses capacités de surveillance précises. Le réacteur a été utilisé dans de nombreuses applications, allant de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, au dépôt de couches minces, et bien d'autres. Les capacités de chauffage central, de refroidissement et de surveillance d'AMAT CENTURA DPS + II en font un outil inestimable dans la recherche et la production industrielle.
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