Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9189888 à vendre en France
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ID: 9189888
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Metal etcher, 12"
Chamber configuration:
(3) DPS II
Axiom
Chamber configuration:
Chamber A:
Chamber model: DPS II
Bias generator: AE APEX 1513, 13.56 MHz, maximum 1500 W
Bias match: AE 13.56 MHz,3 kV navigat
Source generator: AE APEX 3013, 13.56 MHz, maximum 3000 W
Source match: AE 13.56 MHz,6 kV navigat
Lid: Ceramic lid, Single gas nozzle
Turbo pump: STP-A2503PV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-250
ESC: Dual zone ceramic ESC
Endpoint type: Monochromator
Cathode chiller: SMC POU
Wall chiller: SMC INR-496-016C
Process kits coating: Anodize coating
Cooling: HT 200 / FC 40
Chamber B:
Cathode chiller: SMC POU
Chamber C:
Cathode chiller: SMC POU
Wall chiller: SMC INR-496-016C
Mainframe configuration:
IPUP Type: ALCATEL A100L
Gas panel type: NextGen
VHP Robot: Dual blade
MF PC Type: CPCI
Factory interface configuration:
Frontend PC type: 306 Server
FIC PC type: 306 Server
(3) Load ports
Atmospheric robot: Yaskawa track robot
Side storage: Right side
MFC Configuration:
Chamber A:
Gas line Gas name Max flow MFC Type
Gas 1 BCL3 200 ARGD40W1
Gas 2 C2H4/HE 400 AAPGD40W1
Gas 3 NF3 200 AAPGD40W1
Gas 4 CL2 400 SC-24
Gas 5 N2_50 50 AAMGD40W1
Gas 6 N2_300 300 AAPGD40W1
Gas 7 CF4 100 AAPGD40W1
Gas 8 O2 1000 AASGD40W1
Gas 9 SF6 100 AAPGD40W1
Gas 10 CHF3 50 AANGD40W1
Gas 12 AR 400 AAPGD40W1
Chamber B:
Gas line Gas name Max flow MFC Type
Gas 1 BCL3 200 AARGD40W1
Gas 2 C2H4/HE 400 AAPGD40W1
Gas 3 NF3 200 AAPGD40W1
Gas 4 CL2 400 AARGD40W1
Gas 5 N2_50 50 AAMGD40W1
Gas 6 N2_300 300 AAPGD40W1
Gas 7 CF4 100 AAPGD40W1
Gas 8 O2 1000 AASGD40W1
Gas 9 SF6 100 AAPGD40W1
Gas 10 CHF3 50 AANGD40W1
Gas 12 AR 400 AAPGD40W1
Chamber C:
Gas line Gas name Max flow MFC Type
Gas 1 BCL3 200 AARGD40W1
Gas 2 C2H4/HE 400 AAPGD40W1
Gas 3 NF3 200 AAPGD40W1
Gas 4 CL2 400 AARGD40W1
Gas 5 N2_50 50 AAMGD40W1
Gas 6 N2_300 300 AAPGD40W1
Gas 7 CF4 100 AAPGD40W1
Gas 8 O2 1000 AASGD40W1
Gas 9 SF6 100 AAPGD40W1
Gas 10 CHF3 50 AANGD40W1
Gas 12 AR 400 AAPGD40W1
2006 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS II est un réacteur de gravure à plasma à haut débit à haute énergie spécialement conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le taux de gravure d'AMAT Centura DPS II est parmi les plus élevés du marché. Cette capacité permet aux fabricants de réduire le temps de cycle et d'augmenter le débit de production. Le réacteur peut également réduire la température du substrat lors de la gravure, contribuant ainsi à préserver l'intégrité structurale du dispositif semi-conducteur. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II est alimenté par la technologie AMAT High Density Plasma (HDP), offrant une homogénéité supérieure sur toute la surface du substrat et une excellente sélectivité de gravure. Ce contrôle supérieur des espèces produites par plasma réduit également la densité de défauts sur le substrat. La source HDP du réacteur possède une source d'électrons pulsés de faible puissance et de multiples sources de plasma couplées inductivement avec des systèmes intégrés de contrôle des gaz qui offrent une grande souplesse dans les processus de gravure des substrats. Centura DPS II a une taille maximale de substrat de 200mmx200mm. Il offre également un contrôle de pression variable, des gaz d'échappement sous vide et une température de processus réglable, ce qui permet de régler les conditions plasmaprocess. De plus, le réacteur peut être réglé pour optimiser les tranchées peu profondes, les cellules étroites et d'autres caractéristiques difficiles qui nécessitent de faibles dommages de gravure ionisée ou laser. La conception de la plate-forme de type cartouche en boucle fermée aide à maintenir le gaz de procédé propre, contribuant ainsi à réduire la formation de défauts. Sa grande cellule PDLT et sa conception de chambre basse rencontre ionique réduisent également le temps de traitement et maximisent le débit de production. Enfin, l'ensemble de logiciels de suivi et d'optimisation des processus APPLIED MATERIALS permet d'obtenir des résultats fiables et reproductibles, répondant aux normes les plus strictes de l'industrie.
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