Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9213077 à vendre en France
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ID: 9213077
Poly etchers
Chamber A, B, C:
Model: DPS II
Bias generator: AE Apex 1513 13.56 MHz, maximum 1500 W
Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kV Navigate
Source generator: AE Apex 3013 13.56 MHz, maximum 3000 W
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kV Navigation
Lid: Ceramic lid, dual gas nozzle
Turbo pump: EDWARDS STP-A3003 CV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320
FRC: MKS FRCA-52163310, 500/500 1/4 VCR
ESC: Dual zone ceramic ESC
Cathode chiller: SMC POU
Wall chiller: SMC INR-496-016C
Process kit coating: Anodize coating
Cooling: HT 200 / FC 40
Chamber D:
Model: Axiom
Source generator: 5000W
Source match: AE Match (RF System)
Throttle valve: Throttling gate valve
ESC: Pedestal heater
Mainframe configuration:
IPUP Type: TOYOTA 100L
Gas panel type: NextGen
VHP Robot: Dual blade
MF PC type: CPCI
Factory interface configuration:
Frontend PC type: 306 M Server
FIC PC Type: 306 M Server
(3) Load ports
Atmospheric robot: KAWASAKI Single fixed robot (A3 Type)
Side storage: Right and left side
MFC Configuration:
EAS-52A Gas name Max flow MFC type
Gas 1 CL2 300 SC-24
Gas 2 NF3 50 SC-23
Gas 3 SF6 100 SC-24
Gas 4 HBR 500 SC-24
Gas 5 N2_20 20 SC-21
Gas 6 N2_200 200 SC-23
Gas 7 O2_50 20 SC-22
Gas 8 O2_400 400 SC-24
Gas 9 HE 500 SC-24
Gas 10 CHF3 200 SC-24
Gas 11 CF4 300 SC-24
Gas 12 AR 500 SC-24
EAS-52B Gas name Max flow MFC type
Gas 1 CL2 300 SC-24
Gas 2 NF3 50 SC-23
Gas 3 SF6 100 SC-24
Gas 4 HBR 500 SC-24
Gas 5 N2_20 20 SC-21
Gas 6 N2_200 200 SC-23
Gas 7 O2_50 20 SC-22
Gas 8 O2_400 400 SC-24
Gas 9 HE 500 SC-24
Gas 10 CHF3 200 SC-24
Gas 11 CF4 300 SC-24
Gas 12 AR 500 SC-24
EAS-52C Gas name Max flow MFC type
Gas 1 CL2 300 SC-24
Gas 2 NF3 50 SC-23
Gas 3 SF6 100 SC-24
Gas 4 HBR 500 SC-24
Gas 5 N2_20 20 SC-21
Gas 6 N2_200 200 SC-23
Gas 7 O2_50 20 SC-22
Gas 8 O2_400 400 SC-24
Gas 9 HE 500 SC-24
Gas 10 CHF3 200 SC-24
Gas 11 CF4 300 SC-24
Gas 12 AR 500 SC-24
EAS-52D Gas name Max flow MFC type
Gas 1 - - -
Gas 2 - - -
Gas 3 - - -
Gas 4 - - -
Gas 5 - - -
Gas 6 - - -
Gas 7 O2 10000 SC-27
Gas 8 4%H2/N2 5000 SC-26
Gas 9 - - -
Gas 10 N2 1000 SC-25.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II est un équipement de réacteur de traitement de plasma in situ conçu pour des opérations sophistiquées de dépôt et de gravure assistées par plasma. Le système fournit un contrôle thermique et plasma de haute précision requis pour la fabrication avancée de l'appareil. AMAT Centura DPS II est construit à partir du sol pour fournir des résultats de processus fiables et reproductibles. L'unité offre un contrôle précis des paramètres de processus tels que la température, la pression, la puissance RF, le débit de gaz et le mélange. Il s'agit d'une chambre de réaction dopée par la source, et il dispose d'une alimentation robuste qui permet des transitions transparentes entre les réglages haute et basse puissance. La machine dispose également d'un support de substrat refroidi au gaz pour le contrôle de la température du substrat, et d'une sonde numérique qui mesure les conditions de processus en temps réel à l'intérieur de la chambre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II est également un outil intuitif qui peut être programmé et contrôlé en temps réel. Les réglages de puissance RF et de débit de gaz peuvent être réglés avec une interface graphique tactile, et divers paramètres de processus peuvent être contrôlés et enregistrés tout au long du processus. L'actif peut également être intégré avec un PC ou un PLC pour le contrôle automatisé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS II est un outil puissant pour ces applications et est capable de produire des appareils avec des rendements extrêmement élevés tout en conservant d'excellentes performances. Le modèle offre également une gamme de caractéristiques de sécurité avancées, y compris des alarmes de surpression et des moniteurs de mélange de gaz, pour assurer des opérations sûres et contrôlées. Avec sa configuration facile et son interface conviviale, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II est un excellent choix pour ceux qui recherchent un contrôle précis des processus et des résultats cohérents.
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