Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9213084 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II
ID: 9213084
Metal etchers Model Channel A, B: DPS II Channel C, D: AXIOM Chamber A, B: Model: DPSII metal Bias generator: AE Apex 1513 13.56 MHz, maximum 1500 W Bias match: AE 13.56 MHz,3 kV navigation Source generator: AE APEX 3013 13.56 MHz, max 3000 W Source match: AE 13.56 MHz, 6 kV navigation Lid: Ceramic lid, single gas nozzle Turbo pump: STP-A2503PV Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-250 ESC: Dual zone ceramic ESC Endpoint type: Monochromatic Cathode chiller: SMC POU Wall chiller: SMC INR-496-016C Process kit coating: Anodize coating Cooling: HT 200 / FC 40 Chamber C, D: Model: ASP Source generator: DAIHEN ATB-30B Source match: DAIHEN SMA -3001 Throttle valve: Throttling gate valve ESC: Pedestal heater VODM Mainframe configuration: IPUP Type: ALCATEL A100L Gas panel type: NextGen VHP Robot: Dual blade MF PC Type: CL7 Factory interface configuration: Frontend PC type: 4.0 FEPC FIC PC Type: CPCI (3) Load ports Atmospheric robot: YASKAWA Track robot Side storage: Right side MFC Configuration: EWE-02A Gas name Max flow MFC type Gas 1 BCL3 200 SC-24 Gas 2 NF3 100 SC-23 Gas 3 - - - Gas 4 CL2 400 SC-24 Gas 5 C2H4/HE 400 - Gas 6 SF6 200 SC-24 Gas 7 O2 100 AANGD40W1 Gas 8 CF4 100 AAPGD40W1 Gas 9 AR 400 SC-23 Gas 10 N2 50 SC-22 Gas 11 N2 300 SC-24 Gas 12 CHF3 50 SC-23 EWE-02B Gas Name Max flow MFC type Gas 1 BCL3 200 SC-24 Gas 2 NF3 100 SC-23 Gas 3 - - - Gas 4 CL2 400 SC-24 Gas 5 C2H4/HE 400 - Gas 6 SF6 200 SC-24 Gas 7 O2 1000 SC-25 Gas 8 CF4 100 SC-23 Gas 9 AR 400 SC-23 Gas 10 N2 50 SC-22 Gas 11 N2 300 SC-24 Gas 12 CHF3 50 SC-23 EWE-02C Gas Name Max flow MFC type Gas 7 O2 10000 SC-27 Gas 8 CF4 300 SC-24 Gas 9 - - - Gas 10 N2 1000 SC-25 EWE-02D Gas Name Max flow MFC type Gas 1 - - - Gas 2 - - - Gas 3 - - - Gas 4 - - - Gas 5 - - - Gas 6 - - - Gas 7 O2 10000 SC-27 Gas 8 CF4 300 SC-24 Gas 9 - - - Gas 10 N2 1000 SC-25.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II est un équipement modulaire de traitement de plaquettes utilisé pour diverses applications dans les industries semi-conductrices et optiques. Il se compose de deux composants principaux, un plateau et une chambre de réacteur. Le plateau est l'interface entre les outils de traitement et les plaquettes qui doivent être introduites et retirées du système. Il facilite l'alignement et la mise en place de substrats dans la chambre du réacteur pour assurer un traitement précis. Il comprend également des caractéristiques telles qu'un gestionnaire de plaquettes, un post-alignement optique et des composants de bain pour améliorer encore le processus global. La chambre du réacteur est la principale zone de traitement de l'unité et est conçue pour accueillir diverses conditions réactionnelles. Il se compose d'une chambre de traitement, d'un bras de transfert de plateaux, d'un couvercle de chambre de réaction, d'une soupape d'entrée/sortie, d'un orifice d'échappement et de caractéristiques facultatives telles qu'une source de plasma à distance, un Auto-GC et un générateur RF. Le couvercle de la chambre de réaction fournit un environnement contrôlé pour le traitement à l'intérieur de la chambre, permettant un contrôle précis de la température et de la pression. La vanne d'entrée/sortie sert d'interface entre le plateau et la chambre de réaction. Il s'ouvre et se ferme permettant aux substrats d'entrer et de sortir de la chambre. L'orifice d'échappement permet l'évacuation des gaz réactifs lors du traitement. AMAT Centura DPS II offre une gamme d'avantages tels qu'une flexibilité de conception améliorée avec son approche modulaire, un contrôle accru du processus depuis le couvercle de la chambre de réaction et une meilleure manipulation et alignement des plaquettes depuis le plateau. Il permet également des processus reproductibles, des temps de cycle plus rapides et des débits plus élevés. La machine est spécifiquement conçue pour maintenir un environnement de fonctionnement propre, ce qui la rend adaptée aux processus de gravure par plasma sec. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II est un outil de réacteur fiable et convivial qui peut être configuré pour répondre à un éventail d'applications. Sa conception modulaire permet aux utilisateurs d'adapter facilement la configuration pour des besoins spécifiques offrant flexibilité et contrôle. L'actif peut augmenter le débit, améliorer les rendements des produits et réduire le temps et le coût de fabrication.
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