Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9253347 à vendre en France

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II est un réacteur avancé de gravure de plasma conçu pour fournir des performances de procédé supérieures et un rendement de dispositif amélioré. L'équipement est utilisé dans la fabrication des dispositifs semi-conducteurs les plus avancés fabriqués aujourd'hui. Avec son architecture de processus intégrée, AMAT Centura DPS II fournit un système entièrement automatisé et fiable pour la gravure de matériaux avancés en silicium et semi-conducteurs composés. La puissante chambre photochimique de dépôt en phase vapeur (P-CVD) assure le dépôt précis de nombreux matériaux, tels que l'oxyde de silicium, le nitrure, le silicium polycristallin, les métaux et les alliages, dans des motifs complexes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La chambre de gravure à plasma CENTURA DPS + II offre un contrôle et une répétabilité du taux de gravure supérieurs, ce qui permet de régler plus précisément les recettes de processus et de les exécuter de façon répétée sans intervention manuelle de l'opérateur. AMAT CENTURA DPS + II comprend des outils avancés tels qu'un contrôleur multi-outils, qui permet aux opérateurs de surveiller et de contrôler facilement jusqu'à quatre processus de gravure et de dépôt, tandis que les systèmes de contrôle matériel et logiciel indépendants offrent une plus grande flexibilité et une plus grande flexibilité au niveau de la machine pour répondre aux besoins spécifiques des utilisateurs. L'atout avancé de l'outil pour la livraison de gaz fournit une livraison de gaz précise et un contrôle de l'inclinaison, tandis que les sources internes avancées d'oxydation et de dépôt du plasma sont intégrées pour améliorer la productivité et l'uniformité des processus. De plus, le DPS II dispose d'un logiciel avancé tolérant les pannes qui offre une maintenance prédictive et des diagnostics au niveau du modèle. En plus de fournir une excellente gravure et dépôt de plasma, APPLIED MATERIALS Centura DPS II offre également des diagnostics de processus puissants, y compris la mesure des émissions optiques en temps réel, la fluorescence induite par laser (LIF), ainsi que des mesures de décohérence automatique (ADC). En outre, l'équipement est équipé d'un ensemble complet de recettes de processus qui peuvent être modifiées pour répondre aux besoins spécifiques des utilisateurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS/Centura DPS II est un réacteur de production fiable et polyvalent qui peut répondre à un large éventail d'exigences de gravure et de dépôt. Ce système de pointe est le choix idéal pour les utilisateurs qui cherchent à produire les appareils de la plus haute qualité de la manière la plus rentable.