Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9257444 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Le Centura DPS II est un puissant réacteur à source de plasma extrême à haute densité (EHDP) conçu pour réaliser des processus de dépôt de couche atomique (ALD), de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) et de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD). Le réacteur est principalement utilisé dans la réalisation de dispositifs semi-conducteurs à couches minces, tels que des circuits intégrés et des transistors, constitués de matériaux diélectriques et conducteurs. Le réacteur dispose de deux systèmes de génération de plasma - une source de plasma à couplage inductif (ICP) et une source de décharge continue (DCGD) confinée dans un aimant. La source du PIC est utilisée pour la pulvérisation (gravure) des matériaux, et la source DCGD est utilisée pour le dépôt renforcé par le PIC de couches minces sur des plaquettes. La conception modulaire du réacteur permet un remplacement facile des composants et une flexibilité dans le choix des paramètres de traitement. AMAT Centura DPS II offre un traitement à haut rendement, à haut débit et à faible coût pour des opérations de production à haut volume. Il dispose de capacités avancées d'échantillonnage automatique, qui peuvent fournir une caractérisation détaillée des échantillons et permettre l'optimisation des processus. En outre, il dispose d'un système d'entraînement haute puissance qui peut atteindre des taux de croissance de film répétables et précis. Le réacteur présente également une conception multi-chambres avec une chambre principale, une chambre de pompage, et une pré-chambre pour faciliter l'entretien et le fonctionnement. Chaque chambre est équipée de son propre système de cuisson qui minimise le gazage et assure un contrôle de haute précision des températures et des pressions. Le réacteur dispose également d'un système automatisé de chargement et de déchargement des plaquettes qui élimine la manutention manuelle des plaquettes et réduit les risques de contamination ou de dommages. Le réacteur est logé dans une salle blanche de classe 10, offrant un environnement peu contaminant pour une croissance optimale du film ou un dépôt. Le logement est également conçu pour réduire la consommation d'énergie et maximiser l'efficacité énergétique, permettant des économies à long terme. En résumé, LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II est un puissant réacteur source EHDP conçu pour permettre la production de dispositifs semi-conducteurs de haute précision et de haut volume. Sa conception modulaire offre une flexibilité dans la sélection des processus, et ses caractéristiques avancées, telles que le prélèvement automatique et le chargement/déchargement des plaquettes, le rendent adapté à la production de dispositifs semi-conducteurs même les plus avancés.