Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9293611 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Le Centura DPS II est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré (E-CVD) utilisé dans les industries des semi-conducteurs et de la microélectronique. Le DPS II est capable de traiter des empilements complexes de couches minces sur des plaquettes jusqu'à 8 pouces de diamètre. Le réacteur est conçu avec un matériel robuste pour une excellente uniformité de puissance et de dépôt, et est idéal pour les processus de dépôt à faible et à haut débit. Le DPS II offre des fonctionnalités avancées comme un revêtement supérieur en quartz, un revêtement latéral breveté qui permet des cycles de nettoyage rapides et des temps à long terme, et une chambre scellée qui aide à minimiser la contamination et assure des résultats reproductibles. Le réacteur comprend également une phase gazeuse programmable et une accordabilité en temps réel améliorée pour le contrôle final du procédé. Sa détection automatique des points d'extrémité permet un contrôle précis des processus tels que le dépôt de film multi-pile. AMAT Centura DPS II a une large gamme de capacités de processus, allant du dépôt de nitrure à basse température pour les appareils PMOS à l'oxyde CVD à haute température pour les appareils NMOS dans les technologies VLSI logiques et mémoire. Le système a également la souplesse nécessaire pour déposer des films conformes sans l'aide d'une assistance auxiliaire, ce qui le rend apte au dépôt de films de protection et de barrière de haute qualité. Faisant partie de la plateforme AMAT Centura, le DPS II a également amélioré la sécurité et les caractéristiques environnementales. Il est équipé de systèmes automatisés de zone de sécurité qui détectent les risques de fuite potentiels en fonction de la composition du gaz, de la pression et de la température, et il ferme automatiquement le système si nécessaire. Ce réacteur présente également une conception modulaire pour des mises à niveau et un entretien faciles, un cyclage efficace des gaz et une aération automatique qui élimine la nécessité de nettoyer ou d'évacuer manuellement la chambre. En conclusion, APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + II est un réacteur E-CVD avancé et fiable offrant une excellente homogénéité de puissance et de dépôt avec une phase gazeuse programmable. Son matériel avancé et ses caractéristiques de sécurité en font un choix idéal pour une variété de procédés de dépôt.