Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9377212 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS II est un réacteur avancé, capable de traiter les besoins de nombreuses applications dans les domaines des semi-conducteurs, de l'ingénierie des souches, de la nanotechnologie, de l'optique et du traitement de l'énergie. Le réacteur est capable de fonctionner de basses à hautes températures et pressions, et dans une variété d'atmosphères complexes avec de nombreux matériaux et chimies. La combinaison du traitement multi-modes et de l'automatisation avancée permet au réacteur d'effectuer des tâches de traitement complexes avec précision et répétabilité. Le réacteur dispose d'un équipement de contrôle qui permet un contrôle précis des paramètres du procédé, permettant une large gamme de personnalisation et d'optimisation du procédé. Le système de contrôle comporte des caractéristiques telles que l'emplacement automatique des plaquettes pour assurer un positionnement correct des plaquettes, et la possibilité de mettre en place quatre recettes de dépôt spécifiques qui peuvent être stockées et rappelées pour des applications de dépôt répétables. Le fonctionnement du réacteur est contrôlé en temps réel avec le contrôle matériel du matériel de l'unité, la température, et d'autres paramètres importants. La chambre du réacteur est contrôlée en température et peut supporter une grande variété de matériel de chargement, y compris la plaquette en vrac, le substrat et le chargement de cassettes. La conception de la chambre permet des temps de cycle rapides et une répartition uniforme de la température pour créer des résultats de traitement uniformes. Le chauffage direct en deux étapes et le refroidissement indirect réduisent la contamination et améliorent la reproductibilité du procédé. La chambre dispose également d'une machine de sécurité conçue pour arrêter les opérations si la chambre perd de la pression ou si la pression est trop faible. AMAT Centura DPS II dispose également de matériel supplémentaire en option, tel qu'un moniteur d'opacité pour surveiller l'épaisseur du film, ou un générateur d'ozone de forme générer de l'ozone pour les réactions chimiques. Le réacteur dispose également d'un orifice optionnel pour permettre l'introduction de gaz inerte pendant le processus de dépôt. Le réacteur est conçu pour fonctionner sous vide, tout en permettant la variabilité des paramètres du procédé et la flexibilité des recettes d'application, permettant ainsi des conditions optimales de traitement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + II est capable d'un traitement précis et reproductible dans une large gamme de températures et de gaz. Il garantit des résultats de haute qualité qui dépasseront les normes en matière de semi-conducteurs, d'ingénierie des souches, de nanotechnologie, d'optique et de traitement de l'énergie. Ce réacteur est conçu pour la facilité d'utilisation et la fiabilité avec des capacités avancées d'automatisation et de contrôle pour fournir des résultats uniformes et efficaces avec un minimum de maintenance et d'entretien.