Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9390588 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS II est un système de réacteur thermique rapide multi-zones conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il est utilisé dans une grande variété de procédés, allant du dépôt à l'activation du dope, en passant par l'oxydation des couches minces et la gravure. Le DPS II fonctionne à haute température, permettant un traitement thermique rapide (RTP), une étape essentielle dans la fabrication moderne de semi-conducteurs. Il peut atteindre des températures allant jusqu'à 1150 ° C en secondes, bien supérieures aux systèmes traditionnels de four. En conséquence, il permet un contrôle serré des conditions de processus au niveau du nanomètre, permettant le développement de dispositifs innovants et performants. La configuration multi-zones du DPS II comprend trois zones de traitement indépendantes : un suscepteur intégré chauffé résistivement, une lampe de chauffage infrarouge et une chambre oxydante. Cette conception se traduit par un contrôle supérieur des conditions de processus, ainsi que par une moindre impression au pied et une opération peu coûteuse. De plus, les différentes zones de température indépendantes permettent à l'utilisateur de définir le profil thermique optimal pour un procédé donné. Le système est également doté de l'Adaptative Process Control (APC), une technologie exclusive qui assure un traitement uniforme en adaptant dynamiquement le profil de température et de pression en fonction des conditions changeantes du processus. Ceci minimise les effets secondaires indésirables du traitement thermique rapide (RTP), tels que la ségrégation de l'arsenic, la contamination des particules et la quantification des microstructures. Le DPS II utilise également des systèmes de rétroaction optique et spectrométrique avancés pour automatiser le profil thermique et optimiser les paramètres du processus en temps réel. Cela permet à l'utilisateur de définir rapidement le processus optimal, et contribue à assurer un haut niveau de rendement et de qualité du produit. Enfin, le DPS II est également adapté à l'intégration et à l'automatisation complexes des processus. Il utilise à la fois des protocoles logiciels standard et propriétaires, ainsi qu'une variété d'options d'interfaçage, y compris E/S en réseau et EtherCAT. Cela permet de contrôler les variables de processus en temps réel et de les intégrer à des systèmes externes, ce qui simplifie considérablement le fonctionnement du réacteur et permet une efficacité opérationnelle maximale.