Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9390589 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS II est un réacteur à double vide à double tranchant conçu pour les applications de traitement des semi-conducteurs. Il offre aux utilisateurs une gamme complète d'outils pour les processus critiques de gravure et de dépôt. Utilisant une technologie innovante, il est capable d'obtenir des résultats finaux précis et cohérents. Le DPS II est équipé d'un équipement à chambre fermée qui fonctionne en combinaison avec une source de plasma « toroïde » pour obtenir un traitement plasma à haute température uniforme et une uniformité de processus maximale. Ce système à chambre fermée minimise également l'utilisation des gaz réactifs, ce qui augmente le débit unitaire. Il est construit avec 3 touches indépendantes pour permettre le fonctionnement manuel et fournir des niveaux de sécurité plus élevés lors du fonctionnement de la machine. Le DPS II est conçu pour réparer les dispositifs microélectroniques avancés. Il dispose de commandes programmables et conviviales avec des fenêtres dédiées et des écrans de menu tactiles. Un processus de sélection simple permet de sélectionner facilement les plaquettes par lots et de valider automatiquement les paramètres avant chaque course. Ce réacteur comprend également une capacité PECVD qui permet une extension ultérieure du processus. La conception de l'outil offre une haute compatibilité. Il est compatible avec une grande variété de matériaux tels que l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, les diélectriques Low-k, le spin-on-diélectrique, le silicium polycristallin, le carbure de silicium et le germanium de silicium. Sa technologie ultra basse pression garantit une excellente ingénierie tissulaire pour des processus fiables et efficaces. Le pouvoir de proximité breveté crée une gaine plasma très efficace autour de la plaquette qui permet une énergie ionique plus élevée lors de la gravure et du dépôt. Il en résulte une meilleure sélectivité de nettoyage et de gravure. Son modèle de contrôle thermique permet un contrôle précis de la température de la chambre en très peu de temps. Le système avancé de livraison des matériaux de l'équipement assure une livraison fiable et cohérente des matériaux. Le DPS II est capable de fonctionner jusqu'à 3UF spectromètres simultanément, de sorte que les utilisateurs peuvent mesurer, surveiller et contrôler les taux de dépôt, l'uniformité et la composition en temps réel. Il comprend des fonctionnalités avancées de manutention des plaquettes, comme la détection d'endpoint améliorée pour le réglage des processus. Ses serrures de charge à haut rendement offrent également un débit plus élevé. L'unité est également facile à entretenir, dispose de pièces de maintenance de l'utilisateur, et le nettoyage descendant de l'utilisateur. Les plaques thermiques supérieures et inférieures assurent un chauffage rapide et fiable pour les procédés qui ne bénéficient pas d'une température chaude. Sa configuration de sécurité avancée rend difficile l'accès aux données sensibles. En conclusion, AMAT Centura DPS II est un réacteur monobloc à vide conçu pour traiter efficacement les dispositifs microélectroniques à haute performance. Il dispose de diverses technologies innovantes, contrôles programmables, haute compatibilité avec divers matériaux, et des fonctionnalités de sécurité avancées. Ce réacteur est également facile à entretenir et offre un débit élevé pour une production efficace.