Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS Poly #9226614 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS Poly est un réacteur de dépôt chimique thermique en phase vapeur à sec et vertical développé pour le dépôt de silicium polycristallin et d'autres matériaux. La plate-forme Centura DPS™ Poly combine des capacités de traitement verticales et horizontales avec un contrôle du temps de rotation à piston pour fournir Nanoseconde Control™ du processus de dépôt thermique vertical. L'équipement Nanoseconde Control™ est capable de contrôler la température du substrat dans une plage de 1 ° C, assurant le dépôt de films de silicium polycristallin de haute qualité. La géométrie verticale du processus de la plate-forme Centura DPS™ Poly offre également un accès exceptionnel pour le nettoyage et l'entretien manuel. La plate-forme polyvalente Centura DPS™ Poly présente une faible empreinte et une faible consommation de services publics, ce qui la rend idéale pour les installations de fabrication de semi-conducteurs. La plate-forme Centura DPS™ Poly est également capable de fonctionner avec un système d'automatisation de processus avancé, permettant son intégration dans les flux d'outils automatisés. La plate-forme utilise une unité de double source unique, assurant une répartition uniforme des gaz réactifs et une excellente uniformité entre les substrats et les tailles de plaquettes, ce qui donne des films de haute qualité à un débit de substrat élevé. Le Centura DPS™ Poly est soigneusement testé pour s'assurer que tous les composants et systèmes fonctionnent correctement et répondent aux normes élevées de l'industrie. Chaque machine subit un processus rigoureux d'étalonnage et de validation pour assurer une capacité de traitement optimale. L'outil peut être équipé d'un INOVA Module™ pour fournir des capacités de contrôle et de surveillance supplémentaires, réduisant le besoin d'échange de modules et augmentant le temps de fonctionnement. En conclusion, AMAT Centura DPS™ Poly est un excellent choix pour le dépôt de films polycristallins de haute qualité. La géométrie verticale des processus et l'actif Nanoseconde Control™ permettent une excellente stabilité des processus et un excellent accès pour le nettoyage et l'entretien. Le modèle présente également une faible empreinte et une faible consommation de services publics, ce qui en fait un excellent choix pour les installations de fabrication de semi-conducteurs avec un espace limité. L'équipement à double source assure une distribution uniforme des gaz réactifs, améliorant l'homogénéité des films et les débits.