Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188285 à vendre en France
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ID: 9188285
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
Etcher, 8"
Process: Metal
1998 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Le Centura DPS R1 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour le dépôt de films ultra minces et homogènes sur des circuits et dispositifs intégrés. L'équipement est particulièrement adapté aux applications de dépôt où la précision et la qualité des films sont requises. Il dispose de plusieurs chambres indépendantes à vide élevé et d'une alimentation RF à double fréquence pour un contrôle optimal du processus et une uniformité sur une grande surface. La chambre principale du système contient deux sources RF, l'une servant de source haute fréquence et l'autre de source basse fréquence. La source basse fréquence fournit des impulsions de haute énergie pour permettre le dépôt de couches plus épaisses pour la protection du circuit ou pour réduire les dommages causés par l'écriture laser de forte puissance. Les deux sources peuvent être utilisées simultanément pour obtenir un dépôt uniforme sur toute la zone réactionnelle. La chambre est reliée à un suscepteur à quartz capable de supporter des plaquettes jusqu'à 12 pouces de diamètre. L'unité est équipée d'une machine de contrôle de gaz avancée avec contrôle automatisé de la température et de la pression. Ceci permet à l'utilisateur de contrôler avec précision le processus de dépôt, en assurant une vaporisation et un dépôt optimaux du matériau. L'outil est également équipé d'une chambre d'optimisation pilotée par ordinateur pour l'uniformité du dépôt sur toute la zone de travail. La chambre peut être équipée d'une gamme de tailles de porte-échantillons, idéales pour différentes applications. AMAT Centura DPS R1 est conçu pour une large gamme de films CVD, y compris le silicium, le tungstène, le titane, le siliciure et l'aluminium. Il a également été utilisé pour déposer des couches de nitrure et d'oxyde, et la capacité d'utiliser différents systèmes d'injection de gaz assure des caractéristiques de film optimales. L'actif est adapté aux lignes de production à grande vitesse ainsi qu'aux applications de recherche en laboratoire. Le modèle peut être rapidement programmé pour une large gamme de configurations. En outre, il dispose de diverses caractéristiques de sécurité et est conçu pour assurer la sécurité des opérateurs, ce qui le rend idéal pour les environnements de production. L'équipement comprend également des mécanismes de suivi et de réglage des processus pour garantir une efficacité et une fiabilité maximales.
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