Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188290 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1
ID: 9188290
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
Etcher, 8" Process: Poly, metal etch 1997 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS R1 est un réacteur de production de semi-conducteurs de nouvelle génération conçu pour le développement et la fabrication de dispositifs. Le DPS R1 est un réacteur avancé à haut débit conçu pour effectuer des opérations de dépôt et de gravure dans un même équipement intégré. Le réacteur combine un contrôle de processus très efficace et fiable avec une large gamme de modules de processus fiables pour permettre une flexibilité maximale du procédé. AMAT Centura DPS R1 est idéal pour l'optimisation avancée des processus de développement, le développement d'appareils et la fabrication. Le système utilise des pods de modules de processus intégrés (PMP) pour permettre une variété d'options de traitement et de flexibilité. En utilisant les PMP, le réacteur peut effectuer des dépôts et des gravures dans une unité intégrée. Le réacteur est également capable d'exploiter un large éventail d'applications de dépôt et de gravure, y compris un large éventail de matériaux (Si, Ge, SiGe, GaAs, III-V, Nitrures, Poly-Si et Silicium-Nitrure). MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura DPS R1 est conçu pour offrir des performances à haute vitesse dans le plus court temps de cycle possible tout en permettant les plus hauts niveaux d'uniformité et de conformité. Le réacteur utilise également une fonction brevetée de contrôle de la température entre plaquettes réfrigérées qui assure un chauffage/refroidissement rapide et uniforme des plaquettes. Cette caractéristique unique assure un temps de réaction rapide et constant et empêche l'homogénéité des processus de dépôt et de gravure. Centura DPS R1 est capable d'utiliser une large gamme de gaz sources, y compris H2, Ar, Cl2, NF3, O2 et XeF2. Cette flexibilité permet au réacteur d'effectuer divers processus de dépôt et de gravure pour les processus frontaux et latéraux dans divers systèmes de matériaux. En outre, la machine offre une flexibilité dans les configurations des outils, y compris le traitement des plaquettes à une ou à deux sources et les systèmes d'imagerie à champ de vision unique ou à grande surface. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS R1 est l'atout parfait pour le développement de dispositifs avancés et les installations de production de semi-conducteurs. Il est très fiable, rapide et flexible tout en fournissant d'excellents résultats. Le réacteur utilise des modules de contrôle de processus très avancés et efficaces combinés pour fournir un processus extrêmement stable et optimisé. Le modèle offre d'autres options OPC et EBR pour peaufiner vos paramètres de processus et garantir une performance optimale de l'équipement.
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