Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188605 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS R1 est un équipement de dépôt avancé conçu et développé pour l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur AMAT Centura DPS R1 est capable de produire des couches ultrathéniques de composés et de nitrures pour des applications microélectroniques. Ses composants avancés aident à maximiser l'efficacité et la fiabilité des processus tout en minimisant les coûts des processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS R1 est composé de plusieurs composants tels que le module de chauffage du substrat, une plate-forme et plusieurs tubes à quartz à couvercle en quartz. La combinaison des composants permet à l'unité de fournir un environnement équilibré afin d'accueillir un large éventail de processus de dépôt de matériaux. La plate-forme permet d'agencer les outils selon une conception linéaire ou radiale en fonction de la configuration du processus. Le module de chauffage du substrat permet d'assurer une température uniforme sur toute la surface du substrat tout en minimisant les différences entre le substrat et les tubes à quartz. Les tubes à quartz sont équipés de régulateurs de pression numériques et d'alimentations RF afin de fournir une épaisseur de dépôt uniforme, précise et fiable. Le réacteur Centura DPS R1 est conçu pour assurer un contrôle rapide, précis et cohérent de la température. En outre, la machine dispose d'un outil avancé de détection de thermocouple qui donne une meilleure protection contre les chocs thermiques. Cet atout utilise un capteur de température multi-zones pour un contrôle précis, un mécanisme de serrage actif avec amortissement intégré, et un modèle d'aptitude au cycle rapide. La détection de température assure également une vitesse de dépôt uniforme sur de grandes surfaces et permet des vitesses de montée en température et de rafraîchissement plus rapides. L'équipement est équipé d'un système de vide et de filtration très fiable qui lui permet de produire un environnement parfaitement propre et sans poussière afin d'éviter toute contamination par les particules. Ceci est rendu possible par filtration multi-étapes, rinçage actif et cryo-pompage. L'unité dispose également d'un régulateur de débit massique à faible débit (MFC) haute fiabilité pour faciliter la livraison précise de gaz à partir d'une source conforme avec une dispersion minimale. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS R1 est idéal pour une large gamme d'applications telles que le revêtement, le nitrurage, le dépôt d'oxyde, les diffusions, les procédés CVD et le placage sans électrodéposition. La machine est très flexible et peut être utilisée pour la fabrication de couches ULK, Metalization, gravure-stop couches, diélectrique inter-métal, et d'autres applications similaires. AMAT Centura DPS R1 peut également fournir des recettes de processus innovantes et optimisées en utilisant des capacités de contrôle cinétique avancées.