Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #198321 à vendre en France
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ID: 198321
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
Polysilicon etcher, 8"
(3) Chambers
Centura 1 mainframe
Position A: DPS Poly R1
Position B: DPS Poly R1
Position D: DPS Poly R1
Position F: Orientor
Narrow body load lock
HP Robot
NBLL's
(2) Generator racks
(1) System controller
RF generators, RF55
Source RF Gen, RF20R
Leybold mag drive L turbo controller
Lid lift present
1997 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'outil Centura DPS est un réacteur à l'échelle de production et à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) éprouvé par la recherche. Le réacteur fournit une plate-forme de dépôt avancée améliorée par plasma pour un large éventail de matériaux et d'applications à des niveaux de productivité fab prêts à la production. L'équipement AMAT Centura DPS offre des capacités de dépôt inégalées, avec une chambre de dépôt innovante à basse pression et un générateur de plasma. La pression de la chambre de dépôt peut être ajustée pour une sélectivité optimale du procédé, et le générateur de forme d'onde programmable à modulation pulsée peut ajuster précisément la source de plasma unique. À titre d'avantage supplémentaire, le système a la capacité de soutenir les processus réactifs et non réactifs, y compris les dépôts chimiques, atomiques et physiques de vapeurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité Centura DPS dispose d'une conception avancée de réacteur multi-zones avec plusieurs plans d'adressabilité. Ceci fournit un processus uniforme sur toute la surface du substrat, ainsi qu'une reproductibilité sans précédent. La polyvalence des réacteurs permet le dépôt de diélectriques, de semi-conducteurs et de métaux sur une large gamme de tailles de substrat. Grâce à la technologie avancée des casiers de charge et au contrôle des processus in situ, la machine Centura DPS assure un dépôt précis de tous les matériaux à haute reproductibilité. L'interface graphique intuitive permet à l'opérateur de contrôler l'ensemble du processus depuis les paramètres de dépôt jusqu'au débit de gaz et à la pression. Cela permet des résultats précis et reproductibles. Les performances avancées des procédés d'AMAT/APPLIED MATERIALS L'outil Centura DPS est également optimisé pour des débits plus élevés. Cet actif avancé prend également en charge le contrôle à distance des modèles et l'analyse avancée des données, offrant une flexibilité et des niveaux d'efficacité plus élevés pour l'environnement de production moderne d'aujourd'hui. Les avantages de l'équipement AMAT Centura DPS sont nombreux. La polyvalence, la simplicité et le débit du système permettront d'obtenir des résultats reproductibles et une précision de processus plus élevée. En outre, cette unité fournit des niveaux de vide ultra-élevés, permettant un contrôle optimal et la reproductibilité du procédé. Cela permet des économies tout en permettant des rendements maximums et une flexibilité.
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