Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9093676 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS + est un équipement de traitement durable, entièrement automatisé et polyvalent pour les processus avant et arrière dans la fabrication de semi-conducteurs. Le système est conçu pour fournir des résultats optimaux pour l'épitaxie des plaquettes, l'implantation ionique, les CVD métalliques et les processus ALD. Le réacteur est composé de cinq sous-systèmes primaires : le poste de travail, la chambre de traitement, le contrôleur, le plénum d'échappement et l'élément de chauffage. Le poste de travail est conçu pour fournir l'éclairage, le mouvement et l'alignement nécessaires pour le bras robotique de l'unité, ainsi que la précision dans le chargement et le déchargement des plaquettes. La chambre de traitement proprement dite est constituée d'une chambre à vide, et peut être évacuée à des pressions aussi faibles que 0,06 Torr, ce qui fournit un environnement pur et exempt de particules pour le dépôt, l'implantation et d'autres procédés. L'intérieur de la chambre est également conçu pour éviter l'accumulation de films, particules et autres matériaux, tandis qu'un échangeur de chaleur maintient une température de processus uniforme. Le contrôleur du DPS + est chargé d'exécuter les commandes à partir d'une recette appliquée, ainsi que de prendre les ajustements et les décisions nécessaires pour optimiser les résultats du processus. L'interface est conviviale, permettant à la fois le réglage manuel et l'automatisation. Le plénum d'échappement de la machine est chargé de collecter les sous-produits du procédé et de minimiser la charge thermique à l'intérieur de la chambre. Enfin, l'élément chauffant du réacteur est réglable, et peut être réglé à une large gamme de températures, offrant une plus grande polyvalence. Ensemble, AMAT Centura DPS + est conçu pour fournir des résultats de traitement optimaux dans la fabrication de semi-conducteurs, tout en étant entièrement automatisé et efficace. La flexibilité de l'outil permet également de traiter un large éventail de matériaux, des matériaux du groupe IV aux matériaux composés du groupe III-V. La polyvalence du réacteur en fait également un choix idéal pour les applications frontales, telles que l'épitaxie et l'implantation ionique, ainsi que pour les applications de fond, telles que le CVD métallique et l'ALD.