Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9188292 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura DPS + est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute performance conçu pour soutenir le dépôt de matériaux avancés avec un haut degré de contrôle des procédés. Avec une conception de chambre leader dans l'industrie, le réacteur AMAT Centura DPS + peut déposer des matériaux de meilleure qualité et fiabilité que les autres systèmes CVD. Il est conçu pour la production en grand volume de matériaux tels que le graphène, les nanotubes de carbone et divers matériaux oxydes, ainsi que le dépôt de diélectriques, de métaux et d'autres composés pour des applications avancées de semi-conducteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + a une chambre hermétiquement fermée avec une conception unique, ultra haute vitesse de pompage. Cette combinaison de contrôle de la pression, de la température et de l'énergie cinétique fournit une plate-forme de dépôt en phase gazeuse à basse température qui permet une croissance très conforme, uniforme et de haute qualité des matériaux sur de grandes surfaces. La chambre est isolée de la pompe à vide, éliminant ainsi une source importante de contamination. Il est également capable de fournir un débit plus élevé que les systèmes concurrents étant donné sa plus grande taille de substrat, jusqu'à 200mm de diamètre. La chambre de réaction est équipée d'options de dépôt de matériaux utilisant deux types de sources de dépôt : d'une part, la tête de douche en plaquette, qui est une source de tête de douche inclinée orientée perpendiculairement au substrat, et d'autre part, une source de tête de douche verticale traditionnelle. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + peut être modifié pour tenir compte des systèmes de distribution de précurseurs tels que les bulles, les sources d'épitaxie par faisceau moléculaire et les boîtes à gaz. CENTURA DPS + dispose d'un équipement de contrôle intuitif qui permet aux utilisateurs de programmer plusieurs recettes en quelques clics et d'implémenter rapidement des processus de dépôt complexes. Les utilisateurs peuvent également surveiller les différentes étapes du processus ou effectuer des analyses telles que le taux de réaction ou l'utilisation de précurseurs. L'interface d'automatisation robuste du système s'intègre facilement dans les lignes de traitement automatisées et son architecture ouverte permet une programmabilité et un réglage personnalisés. En bref, le réacteur AMAT CENTURA DPS + est une unité CVD extrêmement polyvalente et volumineuse qui peut être utilisée pour déposer une large gamme de matériaux avec une qualité et une fiabilité supérieures. Sa conception hermétique des chambres et ses configurations polyvalentes des sources de dépôt offrent aux utilisateurs un contrôle de processus et une uniformité des matériaux sans précédent sur de grandes surfaces. Sa machine de contrôle intuitive et ses capacités d'intégration d'automatisation en font une solution idéale pour des besoins de traitement exigeants.