Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9206770 à vendre en France

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ID: 9206770
Taille de la plaquette: 8"
Metal etcher, 8" Loadlock: Wide Robot: VHP+ Position A: Metal DPS+ Position B: Metal DPS+ Position C: ASP+ Position D: ASP+ Position E: Fast cooldown Position F: Orienter CH A / CH B : Metal DPS R1 chamber options: Process application: DPS+ Upper chamber body: Anodizing Electrostatic chuck type: Polymide Turbo pump: SEIKO SEIKI STPH 1303C DTCU: E-EDTU Endpoint type: Monochromator Bias generator: OEM 12B (-08) Bias match: 0010-36408 Source generator: ENI GMW-25A, 2500W Throttle valve and gate vave: VAT TGV CH C / CH D : ASP+ Chamber options: Process kit: Chuck Auto tuner: Smart match3750-01106 Magnetron head: 0190-09769 Generator: ASTEX AX2115 Process control: Manometer Gas box: VDS type: 750SCCM IHC Module: MKS 649 Transfer chamber options: Transfer ch Manual Lid Hoist: Yes Robot type: VHP+ Cable length: Umbrical: 55FT.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS est un équipement de traitement thermique des puces à base de plasma à haute performance capable de produire des motifs et des dispositifs détaillés sur des plaquettes semi-conductrices. Il utilise une source de plasma à paroi diélectrique pour déposer des films sur une variété d'applications électroniques et de fabrication de dispositifs. Cet équipement utilise un processus robuste et auto-stabilisant qui simplifie le développement, et facilite l'uniformité et la stoechiométrie uniforme du film. Le DPS dispose de systèmes de distribution de puissance RF pour le dépôt de film stable, le changement d'état à forte température et le dépôt à basse pression avec un débit plus élevé que les procédés analogues, à la même qualité ou de meilleure qualité. Le DPS utilise une source micro-ondes industrielle pour générer une source de plasma à haute densité de titane, d'aluminium et d'autres métaux. Le plasma est ensuite injecté dans une chambre de procédé qui contient une série de parois diélectriques dans des configurations variables. Ces parois aident à contrôler l'écoulement du plasma, assurant un dépôt uniforme sans contact des films sur des surfaces planes et courbes. Le tableau central du contrôleur assure un contrôle serré du temps de cycle et de la chaleur, permettant un contrôle précis du temps et de la température tout en permettant un dépôt à basse pression précis des films sur une seule plaquette à la fois. La chambre de traitement est construite avec des composants en céramique et en verre à haute température. Il utilise une conception de lit d'aiguilles sous vide pour assurer un contrôle exact de la pression et de la température du plasma, permettant une variété d'épaisseurs de film et de matrices de composition. Les parois diélectriques aident à mieux contrôler la vitesse de dépôt tout en minimisant les problèmes de contamination. Les parois peuvent être facilement ajustées et sont auto-nettoyantes lorsque la chambre est actionnée. Le système DPS est un dispositif de haute qualité et économique qui augmente le débit et permet un dépôt de film uniforme pour la production de plaquettes semi-conductrices pour diverses applications. Le système permet la gravure personnalisée, la gravure et le dépôt de couches minces, ainsi que la production de divers oxydes de grille, diélectriques de grille et couches d'isolation pour les applications de dispositifs et de circuits. L'équipement est rapide et fiable, ce qui en fait un dispositif précieux pour la production et la recherche dans la fabrication de semi-conducteurs.
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