Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233287 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9233287
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Metal etcher, 8"
Mainframe: Centura Phase2
Chamber A & B:
DTCU: EDTCU
Gate & throttle valve: Pentium & throttle valve, VAT
EDWARDS STP-H1303C Turbo pump
Pumping tube: Heated
ENI QMW-25 Generator (Source)
ENI OEM-12B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
EPD: Monochromator
Chamber C&D (ASP+):
ASTEX AX-2115 Microwave generator
Tuner: Auto tuner
Chamber E: Fast cooldown
Chamber F: Orieter
Xfer: VHP Robot
L/L: Narrow tilt-out
Gas panel:
Chamber A & B:
Gas / Size / Model
N2 / 20sccm / 8160
O2 / 500sccm / 8160
Ar / 200sccm / 8160
CHF3 / 20sccm / 8160
SF6 / 200sccm / 8160
BCL3 / 100sccm / 8160
CL2 / 200sccm / 8161
Chamber C & D
Gas / Size / Model
N2 / 500sccm / 8160
O2 / 5000sccm / 8160
N2 / 1000sccm / 8160
VDS
Missing parts:
Process chamber chiller & hose
EPD Monitor rack
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + est un équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour répondre aux exigences des écrans OLED de prochaine génération et d'autres applications en microélectronique. AMAT Centura DPS + fournit une sélection de chambres pour répondre à toutes les exigences de dépôt, avec une chambre Delta conçue pour le dépôt de cellules de base, une chambre sigma conçue pour le dépôt de semi-conducteurs composés, et une chambre Stripe conçue pour le dépôt de films rectificateurs avec des cibles en forme de bande. Cela permet une large gamme de capacités de dépôt, des films ultra-minces aux films de plus de deux millimètres d'épaisseur. L'appareil offre de nombreuses fonctionnalités pour améliorer les vitesses et les rendements de traitement, telles que de multiples capacités de contrôle de processus, y compris le contrôle de la température à l'aide de systèmes de contrôle d'ultra-précision, l'uniformité et la répétabilité au niveau micron, le verrouillage automatisé en temps réel de la charge, les sources d'alimentation RF à fréquence variable et la détection personnalisable du point final. En outre, le système fonctionne semi-automatiquement et peut être programmé en conséquence pour traiter des plaquettes dans une variété de formes et de tailles. Il est doté d'un traitement à basse température et les rejets de gaz activés par plasma améliorent le taux de dépôt, l'uniformité et la qualité. Les gaz de procédé de haute pureté utilisés dans l'unité offrent une excellente uniformité de film et la stabilité du processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + offre également un contrôle plasma exceptionnel avec une puissance et des niveaux de pression entièrement réglables, permettant aux utilisateurs de peaufiner les paramètres de processus pour obtenir une performance optimale du matériau. Des architectures spéciales de regroupement multi-chambres permettent le traitement de grappes à haut débit. En outre, les fixations d'alignement intégrées de haute précision et les plates-formes de chargement automatique des plaquettes minimisent le travail manuel. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + offre des capacités de traitement avancées pour les dépôts OLED de nouvelle génération et d'autres besoins en microélectronique. Avec sa gamme de caractéristiques, la machine offre une plate-forme efficace et fiable pour les besoins de dépôt et de gravure.
Il n'y a pas encore de critiques