Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233290 à vendre en France

ID: 9233290
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Poly etcher, 8" Mainframe: Centura 2 Chamber A, B & C: DTCU: ES-DTCU Gate & throttle valve: TGV, VAT EDWARDS STP-A2203 Turbo pump Pumping tube: Heated ADVANCED ENERGY Altas 2012 Generator (Source) ENI ACG-6B Generator (Bias) ESC: Ceramic EPD: Normal Chamber E: Fast cool down Chamber F: Orieter Xfer: VHP L/L: Narrow, heated, tilt-out Hoist: Local hoist Gas panel: Chamber A, B&C: Gas / Size / Model Cl2 / 200sccm / 8161 HBr / 200sccm / 8160 Cl2 / 50sccm / 8160 NF3 / 100sccm / 8161 N2 / 20sccm / 8161 CF4 / 50sccm / 8161 SF6 / 50sccm / 8161 O2 / 100sccm / 8161 He / 20sccm / 8161 Ar / 200sccm / 8160 Missing parts: Process chamber chiller & hose EPD PC & Monitor Chamber D (ASP+): Microwave generator missing Tuner missing Magnetron head Dummy load Wave guide gas panel parts VDS 2001 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura DPS + est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) amélioré par plasma conçu pour les procédés de dépôt. Il est bien adapté à diverses applications, des liaisons thermocompression avancées aux couches de métallisation avancées en passant par la croissance de diélectriques et d'oxydes non polaires. Le DPS + est idéal pour la gamme complète des opérations de dépôt - indépendamment de la complexité ou des exigences de la composition de film requise. AMAT Centura DPS + dispose d'une configuration de matériel à deux canons et deux obturateurs avec commande complète de mouvement à 7 axes, lui permettant de régler la position du substrat et de la source de dépôt avec précision. La commande de mouvement complète offre une flexibilité de processus, permettant des processus de haute précision avec des séquences de contrôle avancées. De plus, la possibilité d'accéder facilement au porte-substrat permet un chargement et un déchargement rapides des substrats. Pour plus de commodité, le DPS + dispose de plusieurs processus de surveillance in-situ ou quasi-situ, qui surveillent les conditions du processus, fournissent une rétroaction en temps réel et permettent l'optimisation du processus par des réglages à la volée. Ce suivi en temps réel permet également une grande prise de conscience de la situation et garantit le bon déroulement et l'efficacité de tous les processus. Le réacteur dispose également d'un équipement informatique unique de distribution de gaz, composé d'une alimentation interne en gaz porteur, d'un régulateur de débit de gaz et d'un système de contrôle de mélange de gaz embarqué. Cette unité permet un contrôle précis des conditions du procédé et assure un débit de gaz optimisé pour chaque procédé individuel. En termes de sécurité, APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + utilise une variété de mesures pour assurer un fonctionnement sûr, d'une machine électrique robuste à un outil programmable d'interception, en passant par un dispositif d'arrêt d'urgence certifié indépendant. En outre, le réacteur dispose de systèmes d'alarme stricts qui surveillent tous les processus, alertant les opérateurs de toute irrégularité de processus. AMAT CENTURA DPS + est un réacteur polyvalent et fiable qui peut répondre à un large éventail d'exigences d'application. Son contrôle complet du mouvement, ses capacités de surveillance avancées et ses systèmes de sûreté indépendants lui confèrent un avantage par rapport aux autres réacteurs présents sur le marché. Les systèmes de contrôle contribuent à assurer un contrôle précis des conditions du procédé et à donner aux utilisateurs un plus grand contrôle sur le processus de dépôt, ce qui en fait un outil précieux pour le contrôle et l'assurance de la qualité.
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