Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233290 à vendre en France
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ID: 9233290
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Poly etcher, 8"
Mainframe: Centura 2
Chamber A, B & C:
DTCU: ES-DTCU
Gate & throttle valve: TGV, VAT
EDWARDS STP-A2203 Turbo pump
Pumping tube: Heated
ADVANCED ENERGY Altas 2012 Generator (Source)
ENI ACG-6B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
EPD: Normal
Chamber E: Fast cool down
Chamber F: Orieter
Xfer: VHP
L/L: Narrow, heated, tilt-out
Hoist: Local hoist
Gas panel:
Chamber A, B&C:
Gas / Size / Model
Cl2 / 200sccm / 8161
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 50sccm / 8160
NF3 / 100sccm / 8161
N2 / 20sccm / 8161
CF4 / 50sccm / 8161
SF6 / 50sccm / 8161
O2 / 100sccm / 8161
He / 20sccm / 8161
Ar / 200sccm / 8160
Missing parts:
Process chamber chiller & hose
EPD PC & Monitor
Chamber D (ASP+):
Microwave generator missing
Tuner missing
Magnetron head
Dummy load
Wave guide gas panel parts
VDS
2001 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura DPS + est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) amélioré par plasma conçu pour les procédés de dépôt. Il est bien adapté à diverses applications, des liaisons thermocompression avancées aux couches de métallisation avancées en passant par la croissance de diélectriques et d'oxydes non polaires. Le DPS + est idéal pour la gamme complète des opérations de dépôt - indépendamment de la complexité ou des exigences de la composition de film requise. AMAT Centura DPS + dispose d'une configuration de matériel à deux canons et deux obturateurs avec commande complète de mouvement à 7 axes, lui permettant de régler la position du substrat et de la source de dépôt avec précision. La commande de mouvement complète offre une flexibilité de processus, permettant des processus de haute précision avec des séquences de contrôle avancées. De plus, la possibilité d'accéder facilement au porte-substrat permet un chargement et un déchargement rapides des substrats. Pour plus de commodité, le DPS + dispose de plusieurs processus de surveillance in-situ ou quasi-situ, qui surveillent les conditions du processus, fournissent une rétroaction en temps réel et permettent l'optimisation du processus par des réglages à la volée. Ce suivi en temps réel permet également une grande prise de conscience de la situation et garantit le bon déroulement et l'efficacité de tous les processus. Le réacteur dispose également d'un équipement informatique unique de distribution de gaz, composé d'une alimentation interne en gaz porteur, d'un régulateur de débit de gaz et d'un système de contrôle de mélange de gaz embarqué. Cette unité permet un contrôle précis des conditions du procédé et assure un débit de gaz optimisé pour chaque procédé individuel. En termes de sécurité, APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + utilise une variété de mesures pour assurer un fonctionnement sûr, d'une machine électrique robuste à un outil programmable d'interception, en passant par un dispositif d'arrêt d'urgence certifié indépendant. En outre, le réacteur dispose de systèmes d'alarme stricts qui surveillent tous les processus, alertant les opérateurs de toute irrégularité de processus. AMAT CENTURA DPS + est un réacteur polyvalent et fiable qui peut répondre à un large éventail d'exigences d'application. Son contrôle complet du mouvement, ses capacités de surveillance avancées et ses systèmes de sûreté indépendants lui confèrent un avantage par rapport aux autres réacteurs présents sur le marché. Les systèmes de contrôle contribuent à assurer un contrôle précis des conditions du procédé et à donner aux utilisateurs un plus grand contrôle sur le processus de dépôt, ce qui en fait un outil précieux pour le contrôle et l'assurance de la qualité.
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