Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233299 à vendre en France

ID: 9233299
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Poly etcher, 8" Mainframe: Centura2 Chamber A, B & C: DTCU: ES-DTCU Gate & throttle valve: TGV, VAT EDWARDS STP-A2203 Turbo pump Pumping tube: Heated ADVANCED ENERGY Altas 2012 Generator (Source) ENI ACG-6B Generator (Bias) ESC: Ceramic Chamber D (ASP+): Tuner: Auto tuner Chamber E: Fast cool down Chamber F: Orieter Xfer: VHP L/L: Narrow, heated, tilt-out Hoist: Local hoist Gas panel: Chamber A, B & C: Gas / Size / Model Cl2 / 200sccm / 8161 HBr / 200sccm / 8160 Cl2 / 50sccm / 8160 NF3 / 100sccm / 8161 N2 / 20sccm / 8161 CF4 / 50sccm / 8161 SF6 / 50sccm / 8161 O2 / 100sccm / 8161 He / 20sccm / 8161 Ar / 200sccm / 8160 Missing parts: Process chamber chiller & hose (3) EPD VDS ASP+ Chamber: Microwave generator Gas panel 2000 vintage.
AMAT (APPLIED MATERIALS/APPLIED) MATERIALS AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur Centura DPS + est un réacteur de taille moyenne et industrielle de type PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) utilisé pour la diffusion et le dépôt de couches minces. C'est un outil évolutif et autonome utilisé pour le dépôt de films semi-conducteurs, de métaux, de films et d'autres matériaux. AMAT Centura DPS + est unique dans sa capacité à fournir une gamme de configurations conviviales de gaz actif et de chargement de plaquettes. Le module à gaz actif permet de sélectionner et d'utiliser un ensemble de gaz plus important à une pression donnée, ce qui permet un processus de dépôt plus efficace et contrôlé. De plus, les options de chargement manuel/automatique permettent de basculer entre différentes tailles de plaquettes, selon les besoins. Cette combinaison de fonctionnalités permet aux utilisateurs d'adapter rapidement leur processus aux exigences de conception spécifiques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA DPS + dispose également d'une puissante source de grappe hybride pour la production de plasma. Cette source est capable de produire du plasma monotone à haute densité répondant aux exigences de température, de pression et de puissance RF des procédés PECVD. Cette source de grappes hybrides profite d'une technique mathématique autonome pour générer du plasma qui minimise la probabilité de flashover et assure une couverture uniforme du substrat cible. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS + dispose également d'une suite de diagnostics sophistiqués permettant un suivi précis de tous les paramètres critiques du processus. Cette série de diagnostics peut être utilisée pour confirmer que tous les paramètres du processus sont conformes aux spécifications et que le processus de dépôt fonctionne correctement. La série de diagnostics comprend le niveau RF, la température de la plaquette, la vitesse de dépôt, la puissance de la source, la pression et les mesures de distribution du plasma. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + est un réacteur polyvalent et facile à utiliser capable d'assurer un contrôle fiable et répétable des procédés. Il permet aux utilisateurs de sélectionner, personnaliser et contrôler le dépôt de couches minces, de métaux et d'autres matériaux. Sa combinaison de puissantes sources de grappes hybrides, de configurations conviviales de chargement de gaz actif et de plaquettes et de suites diagnostiques sophistiquées le rendent idéal pour assurer un contrôle cohérent et fiable des processus sur plusieurs lots.
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