Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233299 à vendre en France
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ID: 9233299
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Poly etcher, 8"
Mainframe: Centura2
Chamber A, B & C:
DTCU: ES-DTCU
Gate & throttle valve: TGV, VAT
EDWARDS STP-A2203 Turbo pump
Pumping tube: Heated
ADVANCED ENERGY Altas 2012 Generator (Source)
ENI ACG-6B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
Chamber D (ASP+):
Tuner: Auto tuner
Chamber E: Fast cool down
Chamber F: Orieter
Xfer: VHP
L/L: Narrow, heated, tilt-out
Hoist: Local hoist
Gas panel:
Chamber A, B & C:
Gas / Size / Model
Cl2 / 200sccm / 8161
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 50sccm / 8160
NF3 / 100sccm / 8161
N2 / 20sccm / 8161
CF4 / 50sccm / 8161
SF6 / 50sccm / 8161
O2 / 100sccm / 8161
He / 20sccm / 8161
Ar / 200sccm / 8160
Missing parts:
Process chamber chiller & hose
(3) EPD
VDS
ASP+ Chamber:
Microwave generator
Gas panel
2000 vintage.
AMAT (APPLIED MATERIALS/APPLIED) MATERIALS AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur Centura DPS + est un réacteur de taille moyenne et industrielle de type PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) utilisé pour la diffusion et le dépôt de couches minces. C'est un outil évolutif et autonome utilisé pour le dépôt de films semi-conducteurs, de métaux, de films et d'autres matériaux. AMAT Centura DPS + est unique dans sa capacité à fournir une gamme de configurations conviviales de gaz actif et de chargement de plaquettes. Le module à gaz actif permet de sélectionner et d'utiliser un ensemble de gaz plus important à une pression donnée, ce qui permet un processus de dépôt plus efficace et contrôlé. De plus, les options de chargement manuel/automatique permettent de basculer entre différentes tailles de plaquettes, selon les besoins. Cette combinaison de fonctionnalités permet aux utilisateurs d'adapter rapidement leur processus aux exigences de conception spécifiques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA DPS + dispose également d'une puissante source de grappe hybride pour la production de plasma. Cette source est capable de produire du plasma monotone à haute densité répondant aux exigences de température, de pression et de puissance RF des procédés PECVD. Cette source de grappes hybrides profite d'une technique mathématique autonome pour générer du plasma qui minimise la probabilité de flashover et assure une couverture uniforme du substrat cible. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS + dispose également d'une suite de diagnostics sophistiqués permettant un suivi précis de tous les paramètres critiques du processus. Cette série de diagnostics peut être utilisée pour confirmer que tous les paramètres du processus sont conformes aux spécifications et que le processus de dépôt fonctionne correctement. La série de diagnostics comprend le niveau RF, la température de la plaquette, la vitesse de dépôt, la puissance de la source, la pression et les mesures de distribution du plasma. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + est un réacteur polyvalent et facile à utiliser capable d'assurer un contrôle fiable et répétable des procédés. Il permet aux utilisateurs de sélectionner, personnaliser et contrôler le dépôt de couches minces, de métaux et d'autres matériaux. Sa combinaison de puissantes sources de grappes hybrides, de configurations conviviales de chargement de gaz actif et de plaquettes et de suites diagnostiques sophistiquées le rendent idéal pour assurer un contrôle cohérent et fiable des processus sur plusieurs lots.
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