Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9249570 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS + est un réacteur PECVD (dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma) conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs à haut rendement et de haute qualité. Le DPS + PECVD utilise la technologie plasma de pointe pour déposer des couches minces de SiN et SiO2, utilisées dans la fabrication de circuits intégrés et autres dispositifs de microminiature. Ce réacteur PECVD est particulièrement bien adapté au dépôt de couches de couches minces conformes. Le DPS + utilise une chambre de vide de serrure de charge, permettant une épaisseur de film répétable sûre et la conformité. Grâce à la combinaison de la production de plasma magnétique et gazeuse, le DPS + permet une grande efficacité, un faible coût et une stabilité de processus avec des films diélectriques et isolants. Cela le rend particulièrement utile pour les applications de production à haut volume. Le système DPS + PECVD dispose également de deux fonctionnalités avancées et d'un logiciel spécialement conçu pour la fabrication d'appareils. Le premier, Plasma Processing Isotopic Analysis (PPIAMD), fournit des données en temps réel sur les performances des processus. Cela permet un réglage rapide et intuitif des processus, permettant une fabrication fiable des appareils. Le deuxième volet, Réactivité-Formulation améliorée (REF), contribue à assurer un dépôt uniforme de couches minces avec une excellente couverture d'étape. Le système DPS + est supporté par des logiciels avancés, utilisant des algorithmes propriétaires et des modèles graphiques exploitables pour assurer l'optimisation et la maintenance continues du flux de processus. Il est ainsi beaucoup plus facile pour le personnel de production de fabriquer rapidement et de manière reproductible des dispositifs à semi-conducteurs dont la durée de vie et la fiabilité des dispositifs sont améliorées de manière rentable. Dans l'ensemble, ce système PECVD performant et économique offre des capacités avancées de dépôt de couches minces et de traitement du plasma, idéales pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de haut rendement et de haute qualité. C'est l'outil parfait pour toute entreprise de semi-conducteurs ou de fonderie cherchant à passer à la fabrication à haut volume.