Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9251499 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+
ID: 9251499
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Dry etchers, 8" 2000 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS + est un réacteur de pointe à gravure plasma haute densité conçu pour offrir un rendement de gravure ultra élevé, un débit élevé et un débit de procédé amélioré. AMAT Centura DPS + combine des technologies de gravure de pointe et des consommables à faible coût pour fournir une solution de gravure rentable, cohérente et de haute qualité aux petites et grandes usines de fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs MEMS. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA DPS + utilise une combinaison de technologies de gravure multiple dont le plasma haute densité à double fréquence (HDP), la gravure isotrope et le dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD). Cette combinaison de technologies permet des procédés de gravure améliorés et économiques dans une grande variété d'applications telles que la gravure de couches minces, la gravure de tranchées profondes et peu profondes, l'isolation sélective de la couche d'appareil, l'isolation d'interconnexion et la gravure multicouche, entre autres. La technologie brevetée HDP fournit le taux de gravure le plus élevé disponible sans « sous-cotation » ou distorsion de la couche de substrat sous-jacente. La technologie HDP peut être utilisée à la fois pour la gravure isotrope et la gravure anisotrope fournissant des taux de gravure élevés pour les deux. Cette technique de gravure est particulièrement adaptée à la gravure de couches ultra minces, très délicates et/ou extrêmement conformes. La technologie intégrée de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) peut fournir des procédés de gravure chimique à la fois sélectifs et uniformes. Le système unique de rétroaction en temps réel du procédé LPCVD assure un dépôt optimal à chaque étape du processus et améliore les rendements de production et les performances du dispositif. Le procédé LPCVD offre également une grande variété de taux, de sélectivité et de stoechiométrie, permettant la production de matériaux d'ingénierie personnalisés avec des propriétés sur mesure. AMAT/APPLIED MATERIALS La flexibilité de la plateforme de CENTURA DPS + est encore renforcée par ses trois modes de fonctionnement. Il s'agit notamment d'un mode de production automatique, d'un mode de sélection semi-automatique et d'un mode de sélection expert manuel. Le réglage des trois modes permet aux graveurs d'optimiser les conditions de processus et les performances de l'application ou de la tâche en question. Protégé par des brevets américains, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS + offre une solution unique aux besoins de gravure de plasma. Avec sa combinaison de flux de processus avancés, de technologies de gravure multiples et de plate-forme flexible, CENTURA DPS + fournit un procédé de gravure rentable, cohérent et de haute qualité pour un large éventail de besoins de fabrication d'appareils.
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