Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9251502 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + est un réacteur semi-conducteur développé par AMAT pour des applications de traitement avancé. AMAT Centura DPS + est un réacteur de diffusion et d'implantation multi-substrat avancé qui permet de déposer et de graver rapidement des films dopés sur plusieurs substrats dans un seul outil de procédé, grâce à un transfert séquentiel de substrat à grande vitesse. Cela rend l'équipement idéal pour l'utilisation dans la production en grand volume de composants ULSI (High-Density, ultra-Large-Scale Integration). En outre, le réacteur DPS + DES MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA supporte également les techniques avancées de dépôt de matériaux, comme le dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) ainsi que les procédés MOL (Metal Oxide Low Temperature). MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Centura DPS + est un système de plaquettes multiples entièrement automatisé composé de modules multiples, chacun conçu pour traiter des phases de traitement spécifiques. Il s'agit notamment du module Purge/Gass Flow, du module Wafer-Transfer, de la chambre thermique, du module de livraison de gaz, du module Cold Wall et du module Hot Resource. Le module Purge/Gas Flow du réacteur CENTURA DPS + assure des flux de gaz fiables et cohérents en contrôlant et en maintenant automatiquement les débits de gaz pour répondre aux exigences spécifiques. Ce module gère et contrôle également l'électronique et la mécanique nécessaires pour purger correctement la chambre du réacteur et ses procédés. Le module de transfert Wafer du réacteur AMAT CENTURA DPS + permet un transfert efficace et précis de plusieurs substrats dans la chambre thermique. Ce module est extrêmement important pour la précision et l'efficacité de l'unité AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS +, car il accélère le processus de production global. La Chambre Thermale de Centura DPS + le réacteur est construit de 316L l'acier inoxydable et est manigancé pour livrer une gamme de température de jusqu'à 1 200 degrés Celsius pour les besoins de traitement avancés. La température contrôlable permet à la Chambre d'appliquer avec précision des profils de traitement sur différents substrats, garantissant une précision parfaite lors du dépôt ou de la gravure des matériaux. Le module de livraison de gaz d'AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Réacteur Centura DPS + permet de délivrer avec précision et précision les gaz de traitement requis par la machine. Ce module est également chargé du routage, du contrôle et de la gestion des flux gazeux requis par le réacteur. Le module à paroi froide du réacteur AMAT Centura DPS + permet d'appliquer avec précision et précision le cryo-refroidissement, ou refroidissement cryogénique, sur le substrat, permettant un contrôle de température extrêmement précis et reproductible. Enfin, le module de ressources chaudes du réacteur DPS + de APPLIED MATERIALS CENTURA gère et contrôle les ressources essentielles, telles que la puissance et les éléments chauffants, à la chambre thermique pour un traitement précis et reproductible. De plus, ce module permet également un réglage automatique précis de la température pour répondre aux exigences spécifiques. Dans l'ensemble, ces modules permettent aux MATÉRIAUX APPLIQUÉS Réacteur Centura DPS + de déposer et de graver des matériaux avec précision et précision, ce qui permet de fabriquer en grand volume des composants d'intégration à haute densité et à très grande échelle (ULSI). La technologie de pointe fournie par APPLIED MATERIALS garantit des performances fiables et répétables, permettant le plus haut niveau de précision dans l'industrie des semi-conducteurs.