Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9275464 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS est un réacteur à double poche de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour déposer des films de haute qualité sur des substrats. Il utilise un contrôle avancé des processus pour garantir des résultats cohérents et reproductibles. L'équipement utilise une conception à double poche qui permet à l'utilisateur de traiter séquentiellement deux plaquettes simultanément et indépendamment, fournissant un débit beaucoup plus élevé que les systèmes traditionnels à simple poche. Le traitement individuel des plaquettes améliore la cohérence de traitement des deux plaquettes et augmente l'uniformité globale au sein d'un même lot de plaquettes. AMAT Centura DPS emploie deux chambres CVD à paroi chaude indépendantes de 75mm et une chambre de chargement/déchargement de matériaux de source commune. Chaque chambre CVD est équipée de deux lampes infrarouges de 2kw, d'un pyromètre et d'un collecteur intégré d'introduction de gaz avec quatre conduites de gaz. Le contrôle indépendant de la température de chaque lampe, assuré par un programmateur de température, crée un gradient de température dans chaque chambre qui permet le dépôt de films d'épaisseur et d'uniformité précises sur le substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS dispose également d'un générateur de turbo-dioxyde qui fournit une source unique d'hydrogène anhydre ultra-pur et de gaz azotés pour créer un environnement de dépôt de haute qualité. Centura DPS est conçu pour fournir des résultats de dépôt fiables et reproductibles, avec une capacité accrue de déposer des films composés d'une variété de matériaux de l'aluminium au tungstène. En combinant plusieurs couches de film et traitements, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS peut réaliser de nouveaux matériaux, revêtements et propriétés physiques pour une variété de substrats. Le système est capable de produire des films d'oxyde et de nitrure uniformes au niveau atomique, permettant un contrôle précis de la structure chimique et physique du substrat. En plus de contrôler les dépôts, AMAT Centura DPS est également conçu pour améliorer la sécurité des utilisateurs. La fonction de détection de bord intégrée de l'unité couplée à son dispositif de confinement du collecteur de verrouillage élimine tout risque d'exposition à des gaz toxiques. En outre, la conception à double poche réduit considérablement la température globale des réacteurs, ce qui crée un environnement plus frais et réduit encore les risques d'accidents ou d'exposition. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS est une machine CVD révolutionnaire conçue pour produire des films de haute qualité sur des substrats avec un contrôle précis et une sécurité accrue. Combiné à ses capacités de poche double, Centura DPS fournit une solution à haut débit pour une large gamme d'applications de matériaux avancés.